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一种制备薄膜的方法，包含以下步骤：用溶胶凝胶法将前驱物、溶剂、去离子水及催化剂按照重量比为20：25：3：2的比例混合制取溶胶溶液；将所述溶胶溶液混合后在15~30℃且pH值为3.9~4.0酸性环境下反应2~4小时形成稳定的胶体溶液；将所述胶体溶液与稀释剂按照比例混合形成涂布溶液；将所述涂布溶液涂布于基体上并乾燥而形成薄膜。如申请专利范围第1项所述之制备薄膜的方法，其中所述前驱物选自由下式(1)表示的至少一种矽烷化合物，RnSiX4-n(1)其中，R表示一种有机官能基，X表示水解性官能基，n为1~2的整数。如申请专利范围第1项所述之制备薄膜的方法，其中所述前驱物选自四乙氧基矽烷、四甲氧基矽烷、三乙氧甲基矽烷和三乙氧乙基矽烷中的至少一种。如申请专利范围第1项所述之制备薄膜的方法，其中所述稀释剂选自甲醇、乙醇和异丙醇中的至少一种。如申请专利范围第1项所述之制备薄膜的方法，其中所述溶剂选自甲醇、乙醇和异丙醇中的至少一种。如申请专利范围第1项所述之制备薄膜的方法，其中将所述溶胶溶液静置12~24小时。如申请专利范围第1项所述之制备薄膜的方法，其中所述前驱物、溶剂、去离子水及催化剂混合后在温度为25℃的条件下反应2小时。如申请专利范围第7项所述之制备薄膜的方法，其中将所述溶胶溶液静置12小时。 |
