发明名称 使用气体分离型喷头的原子层沉积装置
摘要
申请公布号 申请公布日期 2011.09.21
申请号 TW096109114 申请日期 2007.03.16
申请人 奥拓股份有限公司 发明人 裵根鹤;金京洙;金昊植
分类号 C23C16/455 主分类号 C23C16/455
代理机构 代理人 谢佩玲 台北市大安区罗斯福路2段107号12楼
主权项 一种使用气体分离型喷头的原子层沉积装置,所述气体分离型喷头包括:具有外供应管和内供应管的气体供应模组,通过所述外供应管提供第一前驱物,通过所述内供应管提供第二前驱物;具有第一分散区域和第二分散区域的气体分离模组,所述第一分散区域连接到所述外供应管,所述第二分散区域连接到所述内供应管;以及具有多个公共孔的气体注入模组,所述第一前驱物和所述第二前驱物通过所述多个公共孔交替地注入到反应室中,所述原子层沉积装置包括:第一前驱物源,其储存所述第一前驱物并连接到所述外供应管;第二前驱物源,其储存所述第二前驱物并连接到所述内供应管;吹扫气体源,其储存吹扫气体并连接到所述外供应管和所述内供应管;以及排气装置,其排出所述反应室中的剩余材料。如请求项1所述的原子层沉积装置,其中,在所述第一前驱物或所述第二前驱物被注入之后,所述吹扫气体被提供给所述外供应管和所述内供应管至少之一,并通过所述多个公共孔注入所述反应室中。如请求项1所述的原子层沉积装置,其中,当所述第一前驱物被提供给所述外供应管时,所述吹扫气体被提供给所述内供应管;以及其中当所述第二前驱物被提供给所述内供应管时,所述吹扫气体被提供给所述外供应管。如请求项1所述的原子层沉积装置,其中,所述排气装置分别直接连接到所述第一前驱物源和所述第二前驱物源;其中当注入所述第一前驱物时,所述第二前驱物被转向通过所述排气装置而不穿过所述气体分离型喷头;以及其中当注入所述第二前驱物时,所述第一前驱物被转向通过所述排气装置而不穿过所述气体分离型喷头。如请求项1所述的原子层沉积装置,其中,所述气体分离模组包括:第一分散区域,其连接到所述外供应管并被构建成一个区域,所述第一前驱物在所述区域中被分散;第二分散区域,其位于所述第一分散区域下方,连接到所述内供应管且被分成多个区域,所述第二前驱物在所述多个区域中被分散;以及多个出口,其位于所述第二分散区域的所述多个区域的下侧,所述第二前驱物通过所述多个出口被排放。如请求项5所述的原子层沉积装置,其中,所述第二分散区域的所述多个区域包括气体分配板,用于均匀分散所述第二前驱物。如请求项5所述的原子层沉积装置,其中,所述第一前驱物从所述第一分散区域通过所述第二分散区域的所述多个区域的外部空间排放到围绕所述多个出口的空间。一种使用气体分离型喷头的原子层沉积装置,所述气体分离型喷头包括:具有外供应管和内供应管的气体供应模组,通过所述外供应管提供第一前驱物,通过所述内供应管提供第二前驱物;具有第一分散区域和第二分散区域的气体分离模组,所述第一分散区域连接到所述外供应管,所述第二分散区域连接到所述内供应管;以及具有多个公共孔的气体注入模组,所述第一前驱物和所述第二前驱物通过所述多个公共孔交替地注入到反应室中,所述原子层沉积装置包括:第一前驱物源,其储存所述第一前驱物并连接到所述外供应管;第二前驱物源,其储存所述第二前驱物并连接到所述内供应管;吹扫气体源,其储存吹扫气体并连接到所述外供应管和所述内供应管;电源,其将离子化用的能量提供给所述气体分离模组;以及排气装置,其排出所述反应室中的剩余材料。如请求项8所述的原子层沉积装置,其中,所述气体分离型喷头进一步包括绝缘体环,以使所述气体注入模组与所述气体分离模组电绝缘。如请求项9所述的原子层沉积装置,其中,所述气体注入模组由绝缘体制成。如请求项8所述的原子层沉积装置,其中,所述气体注入模组通过使上板和下板组合而被构建;以及其中所述上板由绝缘体制成,而所述下板由导体制成以用于接地。如请求项8所述的原子层沉积装置,其中,在所述第一前驱物和所述第二前驱物被注入之后,所述吹扫气体被提供给所述外供应管和所述内供应管至少之一并通过所述多个公共孔而注入所述反应室中。如请求项8所述的原子层沉积装置,其中,当所述第一前驱物被提供给所述外供应管时,所述吹扫气体被提供给所述内供应管;以及其中当所述第二前驱物被提供给所述内供应管时,所述吹扫气体被提供给所述外供应管。如请求项8所述的原子层沉积装置,其中,所述排气装置分别直接连接到所述第一前驱物源和所述第二前驱物源;其中当注入所述第一前驱物时,所述第二前驱物被转向通过所述排气装置而不穿过所述气体分离型喷头;以及其中当注入所述第二前驱物时,所述第一前驱物被转向通过所述排气装置而不穿过所述气体分离型喷头。如请求项8所述的原子层沉积装置,其中,所述气体分离模组包括:第一分散区域,其连接到所述外供应管并被构建成一个区域,所述第一前驱物在所述区域中被分散;第二分散区域,其位于所述第一分散区域下方,连接到所述内供应管且被分成多个区域,所述第二前驱物在所述多个区域中被分散;以及多个出口,其位于所述第二分散区域的所述多个区域的下侧,所述第二前驱物通过所述多个出口被排放。如请求项15所述的原子层沉积装置,其中,所述第二分散区域的所述多个区域包括气体分配板,用于均匀分散所述第二前驱物。如请求项15所述的原子层沉积装置,其中,所述第一前驱物从所述第一分散区域通过所述第二分散区域的所述多个区域的外部空间排放到围绕所述多个出口的空间。
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