| 主权项 |
一种用于清洗光学元件之清洗治具，其改进在于，包括：一盖体，该盖体至少开设一第一通孔；及一本体，该本体至少开设有一与第一通孔相对应之第二通孔，该第二通孔具有一第一开口与一第二开口，盖体与本体配合时，第一开口较第二开口更接近该盖体，可使盖体与本体配合清洗时，于本体中形成至少一用于收容光学元件之收容空间，该收容空间限定该光学元件，以防止该光学元件从第一通孔或第二通孔之第二开口脱落，该第一开口之尺寸大于光学元件之尺寸，使得该光学元件在该收容空间内有活动空间。如申请专利范围第1项所述之清洗治具，其中，所述之第一通孔为圆形通孔或方形通孔。如申请专利范围第2项所述之清洗治具，其中，所述之第二通孔为圆形通孔或方形通孔。如申请专利范围第3项所述之清洗治具，其中，所述之第二通孔之截面为阶梯形状。如申请专利范围第4项所述之清洗治具，其中，所述之第一开口与第二开口为同心开设在本体上。如申请专利范围第5项所述之治具，其中，所述之盖体与本体配合时，第一通孔与第二通孔同心开设在该治具上。如申请专利范围第1项所述之清洗治具，其中，所述之盖体进一步包括位于其四个角落之四个第一螺孔，及本体进一步包括四个与该四个第一螺孔相对应之第二螺孔。如申请专利范围第1项所述之清洗治具，其中，所述之清洗治具进一步包括另一相同之本体，当该两本体与盖体配合时，该两本体之第二通孔与第一通孔为同心开设在治具上。如申请专利范围第1项所述之清洗治具，其中，所述之清洗治具系用至少一夹子将盖体与本体配合在一起以固定盖体与本体之相对位置。 |
