| 主权项 |
一种抗磨耗元件，其包括一主体，该主体包括了一经粗糙化的接触表面，该接触表面包括了山峰和山谷，以及在该经粗糙化之接触表面上之一层抗磨耗涂布材料的保形涂层，其中该经粗糙化之接触表面具有一表面粗糙度，使得该山谷在该山峰间定义了孔隙，其中在元件磨耗使该主体暴露的期间捕获涂布材料，并具有被捕获之可提供经改良抗磨耗性的涂布材料，其中该经粗糙化之接触表面具有从大约0.0375至大约0.0475之表面粗糙度比率Rq/Rsm，其中：Rq系为均方根粗糙度参数，定义如下：@sIMGTIF!d10021.TIF@eIMG!其中z系为在平均值以上所量测出来的表面高度，该平均值系为一条画出来的线，在该线的以上的面积会与该线以下的孔隙相同，以及L系为量测长度；以及Rsm系为轮廓不规则的平均间隔，定义如下：@sIMGTIF!d10022.TIF@eIMG!其中：si系为二个中间线交叉点之间的距离；以及n系为在该样本长度中的山峰数目。根据申请专利范围第1项之元件，其中该经粗糙化之接触表面具有从大约0.04至大约0.0475之表面粗糙度比率Rq/Rsm。根据申请专利范围第2项之元件，其中该经粗糙化之接触表面具有从大约0.04至大约0.045之表面粗糙度比率Rq/Rsm。根据申请专利范围第1项之元件，其中该经粗糙化之接触表面系为一层放电加工之(EDM)表面。根据申请专利范围第1项之元件，其中该主体系由碳化物所形成。根据申请专利范围第5项之元件，其中该碳化物系为碳化钨。根据申请专利范围第1项之元件，其中该涂层具有不大于大约5μm之厚度。根据申请专利范围第1项之元件，其中该涂层系为选自于由TiN、TiC、Ti(Al,N)与Ti(C,N)、以及超硬涂布材料，诸如钻石与立方氮化硼(cBN)，所构成之群组中的一层涂层。根据申请专利范围第1项之元件，其中该元件系为一切削工具。根据申请专利范围第9项之元件，其中该元件系为一切割工具。根据申请专利范围第9项之元件，其中该元件系为一成型工具。根据申请专利范围第1项之元件，其中该元件系为一密封元件。一种抗磨耗元件，其包括一主体，该主体包括了一经粗糙化的接触表面，该接触表面包括了山峰和山谷，以及在该经粗糙化之接触表面上之一层抗磨耗涂布材料的保形涂层，其中该经粗糙化之表面的山峰具有一高度，该高度系高于该经粗糙化之接触表面的山谷中涂层的高度，因而定义经粗糙化之接触表面山峰间之孔隙，其中在磨耗使该主体暴露的期间捕获涂布材料，其中该经粗糙化之接触表面具有从大约0.0375至大约0.0475之表面粗糙度比率Rq/Rsm，其中：Rq系为均方根粗糙度参数，定义如下：@sIMGTIF!d10023.TIF@eIMG!其中z系为在平均值以上所量测出来的表面高度，该平均值系为一条画出来的线，在该线的以上的面积会与该线以下的孔隙相同，以及L系为量测长度；以及Rsm系为轮廓不规则的平均间隔，定义如下：@sIMGTIF!d10024.TIF@eIMG!其中：si系为二个中间线交叉点之间的距离；以及n系为在该样本长度中的山峰数目。根据申请专利范围第13项之元件，其中该经粗糙化之接触表面具有从大约0.04至大约0.0475之表面粗糙度比率Rq/Rsm。根据申请专利范围第14项之元件，其中该经粗糙化之接触表面具有从大约0.04至大约0.045之表面粗糙度比率Rq/Rsm。根据申请专利范围第13项之元件，其中该经粗糙化之接触表面系为一层放电加工之(EDM)表面。根据申请专利范围第13项之元件，其中该主体系由碳化物所形成。根据申请专利范围第17项之元件，其中该碳化物系为碳化钨。根据申请专利范围第13项之元件，其中该涂层具有不大于大约5μm之厚度。根据申请专利范围第13项之元件，其中该涂层系为选自于由TiN、TiC、Ti(Al,N)与Ti(C,N)、以及超硬涂布材料，诸如钻石与立方氮化硼(cBN)，所构成之群组中的一层涂层。根据申请专利范围第13项之元件，其中该元件系为一切削工具。根据申请专利范围第21项之元件，其中该元件系为一切割工具。根据申请专利范围第21项之元件，其中该元件系为一成型工具。根据申请专利范围第13项之元件，其中该元件系为一密封元件。一种包含经粗糙化之接触表面之主体的用途，该表面包括了山峰和山谷，以及在该经粗糙化之接触表面上之一层抗磨耗涂布材料的保形涂层，其中该经粗糙化之接触表面具有一表面粗糙度，使得该山谷在该山峰间定义了孔隙，该孔隙会在磨耗期间捕获残余的涂布材料，并具有作为提供经改良抗磨耗性的被捕获涂布材料，其中该经粗糙化之接触表面具有从大约0.0375至大约0.0475之表面粗糙度比率Rq/Rsm，其中：Rq系为均方根粗糙度参数，定义如下：@sIMGTIF!d10025.TIF@eIMG!其中z系为在平均值以上所量测出来的表面高度，该平均值系为一条画出来的线，在该线的以上的面积会与该线以下的孔隙相同，以及L系为量测长度；以及Rsm系为轮廓不规则的平均间隔，定义如下：@sIMGTIF!d10026.TIF@eIMG!其中：si系为二个中间线交叉点之间的距离；以及n系为在该样本长度中的山峰数目。一种包含经粗糙化之接触表面之主体的用途，该表面包括了山峰和山谷，以及在该经粗糙化之接触表面上之一层抗磨耗涂布材料的保形涂层作为一抗磨耗结构，其中该经粗糙化之接触表面具有一表面粗糙度，其中该经粗糙化之接触表面的山峰具有一高度，该高度系高于该经粗糙化之接触表面的山谷中涂层的高度，因而定义经粗糙化之接触表面山峰间之孔隙，其中在磨耗使该主体暴露的期间捕获涂布材料，其中该经粗糙化之接触表面具有从大约0.0375至大约0.0475之表面粗糙度比率Rq/Rsm，其中：Rq系为均方根粗糙度参数，定义如下：@sIMGTIF!d10027.TIF@eIMG!其中z系为在平均值以上所量测出来的表面高度，该平均值系为一条画出来的线，在该线的以上的面积会与该线以下的孔隙相同，以及L系为量测长度；以及Rsm系为轮廓不规则的平均间隔，定义如下：@sIMGTIF!d10028.TIF@eIMG!其中：si系为二个中间线交叉点之间的距离；以及n系为在该样本长度中的山峰数目。 |
