薄膜沉积装置

摘要

本发明提供了一种薄膜沉积装置，薄膜沉积装置包括薄膜沉积组件，薄膜沉积组件包括：沉积源，用于排放沉积材料；沉积源喷嘴单元，设置在沉积源的一侧并包括沿第一方向布置的多个沉积源喷嘴；图案化缝隙片，与沉积源喷嘴单元相对地设置并与沉积源喷嘴单元分隔开；位置检测构件，检测基底相对于图案化缝隙片的相对位置；对准控制构件，通过利用位置检测构件检测的基底的所述相对位置来控制图案化缝隙片相对于基底的相对位置；其中，薄膜沉积组件和基底相互分隔开，并且薄膜沉积组件和基底被设置成可彼此相对移动。

主权项

一种用于在基底上形成薄膜的薄膜沉积装置，所述薄膜沉积装置包括薄膜沉积组件，所述薄膜沉积组件包括：沉积源，用于排放沉积材料；沉积源喷嘴单元，设置在沉积源的一侧并包括沿第一方向布置的多个沉积源喷嘴；图案化缝隙片，与沉积源喷嘴单元相对地设置并与沉积源喷嘴单元分隔开，所述图案化缝隙片包括沿第一方向布置的多个图案化缝隙；挡板组件，包括沿第一方向设置在沉积源喷嘴单元和图案化缝隙片之间的多个挡板，所述多个挡板将沉积源喷嘴单元和图案化缝隙片之间的空间划分成多个子沉积空间；位置检测构件，检测基底相对于图案化缝隙片的相对位置；对准控制构件，通过利用位置检测构件检测的基底的所述相对位置来控制图案化缝隙片相对于基底的相对位置；其中，所述薄膜沉积组件和基底相互分隔开，并且所述薄膜沉积组件和基底被设置成可彼此相对移动。