发明名称 |
微孔抛光垫 |
摘要 |
本发明涉及微孔抛光垫,更具体地说,本发明提供用于化学-机械抛光的包括多孔发泡体的抛光垫及其制造方法。一个具体实施方式中,该多孔发泡体平均孔径为50微米或以下,其中75%或以上的孔隙具有平均孔径20微米或以下的孔径。在一个具体实施方式中,多孔发泡体的平均孔径20微米或以下。又另一个具体实施方式中,该多孔发泡体具有多-模态孔径分布。该制造方法包括(a)使聚合物树脂与超临界气体结合产生单相溶液,及(b)从该单相溶液形成抛光垫,其中通过使气体经历高温及高压产生超临界气体。 |
申请公布号 |
CN102189506A |
申请公布日期 |
2011.09.21 |
申请号 |
CN201110093293.9 |
申请日期 |
2003.05.21 |
申请人 |
卡伯特微电子公司 |
发明人 |
阿巴尼什瓦·普拉萨德 |
分类号 |
B24D13/00(2006.01)I;B24D3/32(2006.01)I;B24B39/00(2006.01)I |
主分类号 |
B24D13/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 11105 |
代理人 |
宋莉 |
主权项 |
一种供化学‑机械抛光的抛光垫,包括具有平均孔径为50微米或更小的热塑性聚氨基甲酸酯发泡体,其中热塑性聚氨基甲酸酯的熔体流动指数(MFI)为20或更小,分子量为50,000克/摩尔至300,000克/摩尔,及多分散度指数为1.1至6。 |
地址 |
美国伊利诺伊州 |