| 发明名称 | 曝光装置和图像形成装置 | ||
| 摘要 | 一种曝光装置和图像形成装置。本发明公开一种曝光装置，该曝光装置朝向构造为承载潜像的潜像承载部件发射光，形成在所述潜像承载部件上的所述潜像用于由显影装置所执行的显影处理中。所述曝光装置包括：第一发光单元，其包括沿所述潜像承载部件的主扫描方向设置的有机电致发光元件，所述第一发光单元朝向所述潜像承载部件发射光；以及第二发光单元，其沿所述主扫描方向设置，所述第二发光单元协同所述第一发光单元来校正使所述潜像承载部件曝光的光量。 | ||
| 申请公布号 | CN102189817A | 申请公布日期 | 2011.09.21 |
| 申请号 | CN201010590465.9 | 申请日期 | 2010.12.09 |
| 申请人 | 富士施乐株式会社 | 发明人 | 米山博人;西野洋平;松村贵志;山口义纪;真下清和;佐藤克洋 |
| 分类号 | B41J2/45(2006.01)I;G03G15/00(2006.01)I | 主分类号 | B41J2/45(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人 | 顾红霞;段斌 |
| 主权项 | 一种曝光装置，其朝向构造为承载潜像的潜像承载部件发射光，形成在所述潜像承载部件上的所述潜像用于由显影装置所执行的显影处理中，所述曝光装置包括：第一发光单元，其包括沿所述潜像承载部件的主扫描方向设置的有机电致发光元件，所述第一发光单元朝向所述潜像承载部件发射光；以及第二发光单元，其沿所述主扫描方向设置，所述第二发光单元协同所述第一发光单元来校正使所述潜像承载部件曝光的光量。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||