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发明名称 POLISHING LIQUID FOR CMP AND METHOD OF POLISHING
摘要
申请公布号 EP2020680(A4) 申请公布日期 2011.09.21
申请号 EP20070742231 申请日期 2007.04.24
申请人 HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD. 发明人 SHINODA, TAKASHI;NOBE, SHIGERU;TANAKA, TAKAAKI
分类号 H01L21/321;B24B37/04;C09G1/02 主分类号 H01L21/321
代理机构 代理人
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