发明名称 等离子体处理装置
摘要 按照与用于载置基板的载置台对置的方式,将在下表面形成有多个气体喷出孔的气体喷淋头设置在处理容器的顶板上,并且通过介电体来构成该气体喷淋头周围的处理容器的顶板,在该介电体上设置线圈,按照基板上方的处理区域与包围该处理区域的周边区域中的电场成为同相位或者反相位的方式来调整供给到气体喷淋头以及线圈的高频的相位。
申请公布号 CN102197464A 申请公布日期 2011.09.21
申请号 CN200980142180.4 申请日期 2009.11.17
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 沢田郁夫;康松润;河西繁
分类号 H01L21/3065(2006.01)I;H01L21/205(2006.01)I 主分类号 H01L21/3065(2006.01)I
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人 李伟;舒艳君
主权项 一种等离子体处理装置,具备:处理容器;载置台,其被设置在所述处理容器内,作为下部电极;气体喷淋头,其作为上部电极,并且构成处理气体的供给部,所述等离子体处理装置对所述下部电极与所述上部电极之间施加等离子体产生用的高频电力来使处理气体等离子体化,并通过该等离子体对所述载置台上的基板进行等离子体处理,所述等离子体处理装置的特征在于:具备:第一高频电源部,其与所述上部电极以及下部电极中的一方电极连接,并输出所述等离子体产生用的高频电力;第二高频电源部,其被设定成输出与所述第一高频电源部的输出频率相同的输出频率的高频电力;感应线圈,当从上方俯视与所述第一高频电源部连接的所述一方电极时,该感应线圈被配置成包围该一方电极,并通过从所述第二高频电源部供给的高频电力在所述处理容器内沿着连结该处理容器的侧壁与所述基板的中央部的上方区域之间的线形成横方向的电场;以及相位差调整单元,其为了调整电场的强度而调整从第一高频电源部以及第二高频电源部输出的各个高频的彼此的相位差,其中,该电场是对通过供给来自第一高频电源部的高频电力而在所述处理容器内的所述一方电极附近产生的横方向的电场和通过所述感应线圈形成的所述横方向的电场进行合成而得到的电场。
地址 日本东京都