发明名称 X射线成像装置和X射线成像方法
摘要 公开了能够至少通过单个成像操作获取被检体的微分相位图像或相位图像的X射线成像装置和X射线成像方法。X射线成像装置包括相位光栅(130)、吸收光栅(150)、检测器(170)和算术单元(180)。算术单元(180)执行通过对于由检测器获取的波纹图案的强度分布的傅立叶变换来获取空间频率谱的傅立叶变换处理。算术单元还执行使与载波频率对应的谱与由傅立叶变换处理获取的空间频率谱分离并然后使用逆傅立叶变换来获取微分相位图像的相位恢复处理。
申请公布号 CN102197303A 申请公布日期 2011.09.21
申请号 CN200980142837.7 申请日期 2009.10.27
申请人 佳能株式会社 发明人 长井健太郎;田透;大内千种;伊藤英之助
分类号 G01N23/04(2006.01)I;A61B6/00(2006.01)I 主分类号 G01N23/04(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人 杨国权
主权项 一种X射线成像装置,包括:X射线源;相位光栅,用于透射来自X射线源的X射线以及通过Talbot效应形成干涉强度分布;吸收光栅,用于部分遮蔽由相位光栅形成的干涉强度分布以及产生波纹;检测器,用于检测由吸收光栅产生的波纹的强度分布;和算术单元,用于根据由检测器检测的波纹的强度分布来将被检体的信息成像并输出该信息,其中,算术单元执行包含以下的步骤的处理:傅立叶变换步骤,用于对于由检测器获取的波纹的强度分布执行傅立叶变换以及获取空间频率谱;和相位恢复步骤,用于使与载波频率对应的谱与在傅立叶变换步骤中获取的空间频率谱分离,对于所分离的谱执行逆傅立叶变换,以及获取微分相位图像。
地址 日本东京