| 发明名称 | 压电薄膜、压电器件、液体喷射装置、及制备压电薄膜的方法 | ||
| 摘要 | 压电薄膜、压电器件、液体喷射装置、及制备压电薄膜的方法。一种压电薄膜，所述压电薄膜通过汽相沉积方法在基板表面上形成，没有产生晶粒边界，该晶粒边界基本上平行于基板表面，并且是由层叠引起的。构成压电薄膜的每个晶体的(100)平面的法线与基板表面法线的倾斜角度不小于6°且不大于36°。 | ||
| 申请公布号 | CN102194670A | 申请公布日期 | 2011.09.21 |
| 申请号 | CN201110057145.1 | 申请日期 | 2011.03.03 |
| 申请人 | 富士胶片株式会社 | 发明人 | 直野崇幸 |
| 分类号 | H01L21/20(2006.01)I;H01L41/187(2006.01)I;H01L41/09(2006.01)I;H01L41/24(2006.01)I;B41J2/045(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人 | 过晓东;谭邦会 |
| 主权项 | 一种压电薄膜，该压电薄膜通过汽相沉积方法在基板表面上形成，没有产生晶粒边界，该晶粒边界基本平行于基板表面，并且是由层叠所引起的，其中构成压电薄膜的每个晶体的(100)平面的法线与基板表面法线的倾斜角度不小于6°，且不大于36°。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||