| 发明名称 | 曝光机迈拉膜涨紧框架 | ||
| 摘要 | 本实用新型公开了一种曝光机迈拉膜涨紧框架，其包括有：外框架(1)、内框架(2)，外框架(1)上开设有内凹槽(3)，其特征在于：内凹槽(3)中镶嵌有封条(4)，内框架(2)位于外框架(1)内侧，内框架(2)上活动联接有若干顶丝(5)。本实用新型使用时，将迈拉膜的外边沿置于外框架的内凹槽中，通过封条与外框架的镶嵌结合来固定迈拉膜。当需要调节迈拉膜的涨紧力时，旋转顶丝，顶丝将外框架向外顶开外移，使迈拉膜涨紧。本实用新型操作方便，能够调节迈拉膜的涨紧力，提高了曝光质量，延长了迈拉膜的使用寿命。 | ||
| 申请公布号 | CN201984283U | 申请公布日期 | 2011.09.21 |
| 申请号 | CN201020588411.4 | 申请日期 | 2010.11.03 |
| 申请人 | 北京邮电大学 | 发明人 | 白景文 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 代理人 | ||
| 主权项 | 一种曝光机迈拉膜涨紧框架，其包括有：外框架(1)、内框架(2)，外框架(1)上开设有内凹槽(3)，其特征在于：内凹槽(3)中镶嵌有封条(4)，内框架(2)位于外框架(1)内侧，内框架(2)上活动联接有若干顶丝(5)。 | ||
| 地址 | 100088 北京市海淀区西土城路10号北京邮电大学 | ||