| 发明名称 | 流体处理单元、流体处理组件以及流体处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种流体处理单元，该流体处理单元具有一腔室，在该腔室内容纳有至少一种细碎的流体处理介质，该腔室具有供待处理的流体进入的入口和供处理后的流体流出的出口，其特征在于：所述入口设置在所述腔室的下部，所述出口设置在所述腔室的上部。另外，本发明还涉及采用上述流体处理单元的流体处理装置。本发明的流体处理单元和流体处理装置使得流体处理介质能够自清洁，并且能够使流体获得均匀的处理。 | ||
| 申请公布号 | CN102190336A | 申请公布日期 | 2011.09.21 |
| 申请号 | CN201010128811.1 | 申请日期 | 2010.03.08 |
| 申请人 | 周耀周 | 发明人 | 周耀周 |
| 分类号 | C02F1/00(2006.01)I;C02F1/42(2006.01)I;C02F1/28(2006.01)I | 主分类号 | C02F1/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人 | 史敬久 |
| 主权项 | 一种流体处理单元，该流体处理单元具有一腔室，在该腔室内容纳有至少一种细碎的流体处理介质，该腔室具有供待处理的流体进入的入口和供处理后的流体流出的出口，其特征在于：所述入口设置在所述腔室的下部，所述出口设置在所述腔室的上部。 | ||
| 地址 | 加拿大安大略省 | ||