发明名称 |
多处气体馈送装置与方法 |
摘要 |
本发明的实施例大致提供用于将处理气体导入处理腔室中数个位置处的装置与方法。在一个实施例中,喷气头的区以及喷气头的角落区供给来自气源的处理气体,气源具有调控区中气流的第一质流控制器,以及调控角落区中气流的第二质流控制器。在另一实施例中,喷气头的区供给来自第一气源的处理气体,以及喷气头的角落区供给来自第二气源的处理气体。在另一实施例中,喷气头的区供给来自第一气源的处理气体,以及喷气头的每一角落区供给来自个别气源的处理气体。 |
申请公布号 |
CN102197458A |
申请公布日期 |
2011.09.21 |
申请号 |
CN200980142491.0 |
申请日期 |
2009.10.20 |
申请人 |
应用材料公司 |
发明人 |
艾伦·曹;崔伦;汤姆·K·周;布赖恩·西-元·施赫 |
分类号 |
H01L21/205(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/205(2006.01)I |
代理机构 |
北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 |
代理人 |
柳春雷 |
主权项 |
一种处理设备,其包含:喷气头;背板,其与所述喷气头相邻,使得气室形成在所述背板与所述喷气头之间;第一气源,其与穿过所述背板的中央区形成的开口流体连通;以及第二气源,其与穿过所述背板的角落区形成的开口流体连通。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |