| 发明名称 | 包含具有螺环缩酮基团的单体的光刻胶聚合物及其组合物 | ||
| 摘要 | 本发明公开了具有螺环缩酮基团的光刻胶聚合物，以及包括所述聚合物的光刻胶组合物。由于所述螺环缩酮基团脱保护反应的活化能较低，因此所述光刻胶聚合物和光刻胶组合物可以提高分辨率和制程范围；并且由于其PEB(曝光后烘焙)温度敏感性较低，可产生精细的光刻胶图案。 | ||
| 申请公布号 | CN1931858B | 申请公布日期 | 2011.09.21 |
| 申请号 | CN200510102771.2 | 申请日期 | 2005.09.15 |
| 申请人 | 株式会社东进世美肯 | 发明人 | 李载禹;李正烈;金德倍;金宰贤;孙银卿 |
| 分类号 | C07D407/08(2006.01)I;C08G4/00(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I | 主分类号 | C07D407/08(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人 | 王达佐;韩克飞 |
| 主权项 | 1.通式1的单体，通式1<img file="F200510102771201C00011.GIF" wi="1503" he="942" />其中R<sup>*</sup>为氢或甲基；x和y独立地为1、2或3；且R为具有3到50个碳原子的饱和单环或多环烃基或饱和杂单环或多环烃基。 | ||
| 地址 | 韩国仁川广域市 | ||