| 发明名称 | 真空灭弧室 | ||
| 摘要 | 本实用新型涉及一种真空灭弧室，两个触头元件在该真空灭弧室内能打开和闭合并且设置在朝外封闭的真空中，在位于真空灭弧室内部的铜构件内的元件中，设置侧向的盲孔(2)，除气材料作为粉末材料安放在盲孔中并且用筛子(4)封闭。上述方案一方面非常简单，但是在真空灭弧室内也具有显著的有效性。 | ||
| 申请公布号 | CN201985027U | 申请公布日期 | 2011.09.21 |
| 申请号 | CN201020693478.4 | 申请日期 | 2010.12.31 |
| 申请人 | ABB技术股份公司 | 发明人 | D·根奇 |
| 分类号 | H01H33/664(2006.01)I | 主分类号 | H01H33/664(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 董华林 |
| 主权项 | 真空灭弧室，两个触头元件在该真空灭弧室内能打开和闭合并且设置在朝外封闭的真空中，其特征在于：在位于真空灭弧室内部的铜构件内的元件中，设置侧向的盲孔(2)，除气材料作为粉末材料安放在盲孔中并且用筛子(4)封闭。 | ||
| 地址 | 瑞士苏黎世 | ||