| 发明名称 |
DEPOSITION CHAMBER CLEANING SYSTEM AND METHOD |
| 摘要 |
<p>An in-situ method of cleaning a vacuum deposition chamber can include flowing at least one reactive gas into the chamber.</p> |
| 申请公布号 |
WO2011112587(A1) |
申请公布日期 |
2011.09.15 |
| 申请号 |
WO2011US27554 |
申请日期 |
2011.03.08 |
| 申请人 |
FIRST SOLAR, INC.;BECK, MARKUS, E. |
发明人 |
BECK, MARKUS, E. |
| 分类号 |
B08B7/00 |
主分类号 |
B08B7/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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