摘要 |
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Beschichtung von Oberflächen mit einer elektrisch leitfähigen diamant-ähnlichen Schicht mittels plasmaunterstützter chemischer Gasphasenabscheidung. Erfindungsgemäß umfasst die Gasatmosphäre, aus der die Beschichtung abgeschieden wird, ein kohlenstoffhaltiges Gas sowie ≥ 0,01 Volumen-% bis ≤ 50 Volumen-% Sauerstoff, ≥ 0,01 Volumen-% bis ≤ 70 Volumen-% Stickstoff und ≥ 0,01 Volumen-% bis ≤ 10 Volumen-% Argon, wobei die Summe der vorgenannten Komponenten ≤ 100 Volumen-% ausmacht. Das erfindungsgemäße Verfahren stellt eine diamantähnliche Schicht zur Verfügung, die eine ausreichende elektrische Leitfähigkeit aufweist
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