| 发明名称 | 光学薄膜用粘合剂及其制造方法,及其应用 | ||
| 摘要 | 本发明的光学薄膜用粘合剂中相对于(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，含有过氧化物(B)0.02～2重量份及异氰酸酯系化合物(C)0.001～2重量份，其中所述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)是相对于(甲基)丙烯酸烷基酯(a1)100重量份含有具有羟基的(甲基)丙烯酸系单体(a2)0.01～5重量份作为共聚成分，所述具有羟基的(甲基)丙烯酸系单体(a2)中，在羟基烷基中的烷基的碳原子数为4以上。由此，本发明提供的光学薄膜用粘合剂能够抑制由伴随光学薄膜等构件的尺寸变化的应力引起的翘曲和漏光，并且耐久性高，在制造工序方面具有出色的操作性，可以得到质量良好的粘合型光学薄膜。 | ||
| 申请公布号 | CN102181245A | 申请公布日期 | 2011.09.14 |
| 申请号 | CN201110029511.2 | 申请日期 | 2005.12.01 |
| 申请人 | 日东电工株式会社 | 发明人 | 外山雄祐;佐竹正之;小笠原晶子;诸石裕;中野史子 |
| 分类号 | C09J133/08(2006.01)I;C09J133/10(2006.01)I;C09J11/06(2006.01)I;G02B5/30(2006.01)I | 主分类号 | C09J133/08(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 朱丹 |
| 主权项 | 一种光学薄膜用粘合剂，其特征在于，所述光学薄膜用粘合剂中，相对于(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，含有过氧化物(B)0.02～2重量份及异氰酸酯系化合物(C)0.001～2重量份，其中所述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)是相对于(甲基)丙烯酸烷基酯(a1)100重量份含有具有羟基的(甲基)丙烯酸系单体(a2)0.01～5重量份作为共聚成分，所述具有羟基的(甲基)丙烯酸系单体(a2)中，羟基烷基中的烷基的碳原子数为4以上。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||