| 发明名称 | 一种反应腔室及应用该反应腔室的等离子体处理设备 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种反应腔室，其包括腔体和介质窗，所述介质窗置于腔体的侧壁顶部，并且在二者的接触面之间设置有密封件和缓冲件，所述缓冲件包括第一缓冲件和第二缓冲件，所述第二缓冲件位于所述第一缓冲件的外侧，且所述第一缓冲件的弹性模量大于所述第二缓冲件的弹性模量。此外，本发明还公开了一种应用上述反应腔室的等离子体处理设备。本发明提供的反应腔室及应用该反应腔室的等离子体处理设备具有使用寿命长、成本低以及工艺稳定等优点。 | ||
| 申请公布号 | CN101667524B | 申请公布日期 | 2011.09.14 |
| 申请号 | CN200810119319.0 | 申请日期 | 2008.09.03 |
| 申请人 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 发明人 | 管长乐 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01)I;H05H1/46(2006.01)I;H01J37/32(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人 | 张天舒;陈源 |
| 主权项 | 一种反应腔室，包括腔体和介质窗，所述介质窗置于腔体的侧壁顶部，并且在二者的接触面之间设置有密封件，其特征在于，在所述腔体和介质窗的接触面之间还设置有缓冲件，所述缓冲件包括第一缓冲件和第二缓冲件，所述第二缓冲件位于所述第一缓冲件的外侧，且所述第一缓冲件的弹性模量大于所述第二缓冲件的弹性模量。 | ||
| 地址 | 100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5楼南二层 | ||