快速原型制作设备的改进

摘要

立体光刻设备和用于立体光刻设备的曝光系统，其中发光二极管被用作光源。本发明涉及对齐来自发光二极管的光并且涉及发光二极管的更换和控制。

主权项

一种用于立体光刻设备（SA）的曝光系统（ES），包含：发射波长介于200nm和l00000nm之间的光的至少一个发光二极管（LD），具有多个单独可控光调制器（LM）的至少一个空间光调制器（SLM），光学耦合到所述至少一个空间光调制器（SLM）的输入光学元件（IO），光学耦合到所述至少一个空间光调制器（SLM）的输出光学元件（OO），至少一个控制单元（CU），其中所述输入光学元件（IO）和输出光学元件（OO）促进从所述至少一个发光二极管（LD）发射的光经由所述空间光调制器（SLM）的所述单独可控光调制器（LM）透射到照射区域（IA），其中所述空间光调制器（SLM）使得能够依照来自所述控制单元（CU）的控制信号建立来自所述输入光学元件（IO）的光的图案，其中所述输出光学元件（OO）使得能够将来自所述至少一个空间光调制器（SLM）的光的图案聚焦在照射斑点（ISP）上，以及其中所述曝光系统（ES）能够将从所述发光二极管（LD）发射的相对于发光二极管（LD）的光轴（OALD）所成角度大于45度的光对齐，从而使这样的光指向相对于光轴（OALD）平行的方向。