发明名称 使用给泵浦装置的反馈的泵浦激光系统
摘要 本发明激光系统包括:泵浦产生装置(x02、x03),用于至少产生第一和第二优选聚焦的泵浦光束;及激光装置(x06、x07),用于通过被适当地泵浦而发出辐射。所述激光装置(x06、x07)位于第一谐振器中以接收第一泵浦光束从而产生具有第一频率的第一光束(x21);及所述激光装置(x06、x07)位于第二谐振器中以接收第二泵浦光束从而产生具有第二频率的第二光束(x22)。至少一Q开关(x08;x17、x18)位于第一和第二谐振器中,使得所述第一光束和第二光束均通过Q开关(x08;x17、x18)。所述激光系统(x01)具有从所述第一光束(x21)和所述第二光束(x22)产生的输出(x13),该输出(x13)的至少一部分反馈回到调节系统(x14),该调节系统控制所述泵浦产生装置(x02、x03)。
申请公布号 CN101553961B 申请公布日期 2011.09.14
申请号 CN200780033852.9 申请日期 2007.07.10
申请人 先进光源公司 发明人 P·蒂德曼利希滕贝格;M·托尔豪格;J·L·莫滕森
分类号 H01S3/102(2006.01)I;H01S3/131(2006.01)I;H01S3/23(2006.01)I 主分类号 H01S3/102(2006.01)I
代理机构 北京金信立方知识产权代理有限公司 11225 代理人 黄威
主权项 激光系统(x01),包括:‑泵浦产生装置(x02、x03),用于至少产生第一和第二泵浦光束;‑激光装置(x06、x07),用于通过被适当地泵浦而发出辐射;‑所述激光装置(x06、x07)位于第一谐振器中以接收第一泵浦光束从而产生具有第一频率的第一光束(x21);及‑所述激光装置(x06、x07)位于第二谐振器中以接收第二泵浦光束从而产生具有第二频率的第二光束(x22);‑位于第一和第二谐振器中的至少一Q开关(x08;x17、x18),使得所述第一光束和第二光束均通过Q开关(x08;x17、x18);及‑所述激光系统(x01)具有从所述第一光束(x21)和所述第二光束(x22)产生的输出(x13),其中所述输出(x13)的至少一部分反馈回到调节系统(x14),该调节系统通过控制所述泵浦产生装置(x02、x03)的强度输出而调节第一光束(x21)和第二光束(x22)的各个激光脉冲的形成时间以优化各个激光脉冲之间的重叠,其中所述激光装置(x06、x07)至少包括用于产生所述第一光束(x21)的第一增益元件或激光元件(x06)及用于产生所述第二光束(x22)的第二增益元件或激光元件(x07)。
地址 丹麦灵比