发明名称 |
电容器、电介质结构和形成电介质结构的方法 |
摘要 |
一些实施例包括电介质结构。所述结构包括彼此直接抵靠的第一部分和第二部分。所述第一部分可含有第一相与第二相的均质混合物。所述第一相可具有大于或等于25的介电常数,且所述第二相可具有小于或等于20的介电常数。所述第二部分可完全为具有大于或等于25的介电常数的单一组合物。一些实施例包括含有上述类型的电介质结构的电组件,例如,电容器和晶体管。一些实施例包括形成电介质结构的方法,且一些实施例包括形成电组件的方法。 |
申请公布号 |
CN102187440A |
申请公布日期 |
2011.09.14 |
申请号 |
CN200980140913.0 |
申请日期 |
2009.09.10 |
申请人 |
美光科技公司 |
发明人 |
诺埃尔·罗克莱恩;克里斯·M·卡尔森;戴夫·彼得森;杨村宇;普拉文·维迪阿纳坦;维什瓦纳特·巴特 |
分类号 |
H01L21/31(2006.01)I;H01L21/8242(2006.01)I;H01L27/108(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/31(2006.01)I |
代理机构 |
北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 |
代理人 |
宋献涛 |
主权项 |
一种形成电介质结构的方法,其包含:形成所述电介质结构的第一部分;所述第一部分包含含有第一相和第二相的均质混合物;所述第一相具有大于或等于25的介电常数,且所述第二相具有小于或等于20的介电常数;以及形成所述电介质结构的第二部分;所述第二部分直接抵靠所述第一部分;所述第二部分由具有大于或等于25的介电常数的组合物组成。 |
地址 |
美国爱达荷州 |