发明名称 |
一种利用多量子阱电子阻挡层增加发光效率的AlGaN基深紫外LED器件及制作方法 |
摘要 |
本发明公开了一种提高AlGaN基深紫外LED器件发光效率的方法。该方法采用多周期的AlGaN量子阱结构作为阻挡电子从有源区逃逸到p-AlGaN势垒屋的电子阻挡层。同普通的单层AlGaN电子阻挡层相比,多重AlGaN量子阱结构的电子阻挡层通过量子干涉效应,可以更有效地降低电子传输到p型层,从而增加电子的注入效率,提高LED器件的发光效率。 |
申请公布号 |
CN102185064A |
申请公布日期 |
2011.09.14 |
申请号 |
CN201110097338.X |
申请日期 |
2011.04.19 |
申请人 |
武汉华炬光电有限公司 |
发明人 |
陈莉;蔡茜;熊辉 |
分类号 |
H01L33/14(2010.01)I;H01L33/04(2010.01)I;H01L33/06(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/14(2010.01)I |
代理机构 |
江西省专利事务所 36100 |
代理人 |
胡里程 |
主权项 |
一种利用多量子阱电子阻挡层增加发光效率的ALGAN基深紫外发光二极管(LED)器件,器件结构包括AlN本征层、n型AlGaN底层、AlGaN多量子阱有源区、Al组分在30‑40%的p型AlGaN层和p型GaN帽层,其特征在于:AlGaN多量子阱有源区和Al组分在60‑80%的p型AlGaN层之间设有p型AlGaN多量子阱电子阻挡层;运用p型AlGaN多量子阱作为电子阻挡层,其电子阻挡能力要优于传统的单层p型AlGaN电子阻挡层。 |
地址 |
430074 湖北省武汉市关东科技工业园高新数码港武汉留学生创业园C栋1116室 |