发明名称 提高电子注入效率的氮化镓基发光二极管
摘要 一种提高电子注入效率的氮化镓系发光二极管,其包括:一衬底;一氮化镓成核层制作在衬底上;一缓冲层制作在氮化镓成核层上;一n型接触层制作在缓冲层上,在该n型接触层的上面的一侧形成一台面;一下多周期n型电子耦合层制作在n型接触层上台面另一侧的上面;一下隧穿势垒层制作在下多周期n型电子耦合层上;一上多周期n型电子耦合层制作在下隧穿势垒层上;一上隧穿势垒层制作在上多周期n型电子耦合层上;一多周期活性发光层制作在上隧穿势垒层上;一负电极制作在n型接触层的台面上;一p型电子阻挡层制作在多周期活性发光层上;一p型接触层制作在p型电子阻挡层上;一正电极制作在p型接触层上,形成氮化镓系发光二极管的结构。
申请公布号 CN102185056A 申请公布日期 2011.09.14
申请号 CN201110115323.1 申请日期 2011.05.05
申请人 中国科学院半导体研究所 发明人 马平;王军喜;魏学成;曾一平;李晋闽
分类号 H01L33/02(2010.01)I;H01L33/14(2010.01)I;H01L33/04(2010.01)I 主分类号 H01L33/02(2010.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 汤保平
主权项 一种提高电子注入效率的氮化镓系发光二极管,其包括:一衬底;一氮化镓成核层,该氮化镓成核层制作在衬底上;一缓冲层,该缓冲层制作在氮化镓成核层上;一n型接触层,该n型接触层制作在缓冲层上,在该n型接触层的上面的一侧形成一台面,该n型接触层由n型氮化镓构成;一下多周期n型电子耦合层,该下多周期n型电子耦合层制作在n型接触层上台面另一侧的上面;一下隧穿势垒层,该下隧穿势垒层制作在下多周期n型电子耦合层上;一上多周期n型电子耦合层,该上多周期n型电子耦合层制作在下隧穿势垒层上;一上隧穿势垒层,该上隧穿势垒层制作在上多周期n型电子耦合层上;一多周期活性发光层,该活性发光层制作在上隧穿势垒层上;一负电极,该负电极制作在n型接触层的台面上;一p型电子阻挡层,该p型电子阻挡层制作在多周期活性发光层上;一p型接触层,该p型接触层制作在p型电子阻挡层上,该p型接触层由p型氮化镓构成;一正电极,该正电极制作在p型接触层上,形成氮化镓系发光二极管的结构。
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