| 发明名称 | 无掩膜直写光刻装置（ATD2000P） | ||
| 摘要 | 1．本外观设计产品的名称：无掩膜直写光刻装置（ATD2000P）。2．本外观设计产品的用途：本产品是无掩膜直写光刻设备，通过空间面光源调制扫描技术实现直写光刻，主要用于大规模IC90nm工艺节点用掩模板制作、维纳加工、MEMS、LED、生物芯片等。3．本外观设计的设计要点：在于产品的外形；本外观设计为成套产品，由2个套件组成。4．最能表明设计要点的图片或者照片：套件1主视图。5．省略套件1和套件2的仰视图。 | ||
| 申请公布号 | CN301672388S | 申请公布日期 | 2011.09.14 |
| 申请号 | CN201130035425.3 | 申请日期 | 2011.03.07 |
| 申请人 | 合肥芯硕半导体有限公司 | 发明人 | 李巍;陈新宏;项宗齐;胡正;李香滨;王友车;赵华 |
| 分类号 | 15-09 | 主分类号 | 15-09 |
| 代理机构 | 合肥金安专利事务所 34114 | 代理人 | 金惠贞 |
| 主权项 | |||
| 地址 | 230601 安徽省合肥市经开区锦绣大道68号 | ||