| 发明名称 | 一种用于核微孔膜生产过程的防护结构 | ||
| 摘要 | 本实用新型涉及一种用于核微孔膜生产过程的防护结构。本实用新型的一种用于核微孔膜生产过程的防护结构包括一个用于形成第一核微孔膜的第一膜层，在该第一膜层一面上认为不需要微孔的位置涂布有第一防护层，在该第一膜层的另一面复合保护膜层，其特征在于：在保护膜层上相对与第一膜层复合面的另一面复合有一个用于形成第二核微孔膜的第二膜层，在该第二膜层相对与保护膜层复合面的另一面上认为不需要微孔的位置涂布有第二防护层。本实用新型的优点在于：提高核微孔膜生产效率。 | ||
| 申请公布号 | CN201970545U | 申请公布日期 | 2011.09.14 |
| 申请号 | CN201020665352.6 | 申请日期 | 2010.12.09 |
| 申请人 | 中山国安火炬科技发展有限公司 | 发明人 | 崔清臣;凌红旗;晏光明;黄海龙 |
| 分类号 | B32B37/12(2006.01)I;B32B38/04(2006.01)I;B32B38/10(2006.01)I | 主分类号 | B32B37/12(2006.01)I |
| 代理机构 | 中山市汉通知识产权代理事务所 44255 | 代理人 | 田子荣 |
| 主权项 | 一种用于核微孔膜生产过程的防护结构，包括一个用于形成第一核微孔膜的第一膜层，在该第一膜层一面上认为不需要微孔的位置涂布有第一防护层，在该第一膜层的另一面复合保护膜层，其特征在于：在保护膜层上相对与第一膜层复合面的另一面复合有一个用于形成第二核微孔膜的第二膜层，在该第二膜层相对与保护膜层复合面的另一面上认为不需要微孔的位置涂布有第二防护层。 | ||
| 地址 | 528437 广东省中山市火炬开发区沿江东四路32号之一 | ||