| 发明名称 | 图案式微弧氧化方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种图案式微弧氧化方法，包含如下步骤：（1）在轻金属或轻金属合金的产品上预先设计好图案；（2）避开设计好的图案，在产品上印刷或喷涂抗微弧氧化物质；（3）将产品置入微弧氧化槽进行微弧氧化；（4）待陶瓷膜生成之后，取出产品将抗微弧氧化物质去除。通过在产品上避位印刷或喷涂抗微弧氧化物质，用以控制产品上陶瓷膜生成的图案位置，不用对陶瓷膜进行破坏便能留出导电位；而且采用此方法还能创造不同的外观图案，增加美感。 | ||
| 申请公布号 | CN102181900A | 申请公布日期 | 2011.09.14 |
| 申请号 | CN201110135368.5 | 申请日期 | 2011.05.24 |
| 申请人 | 昆山金利表面材料应用科技股份有限公司 | 发明人 | 高谊恬 |
| 分类号 | C25D11/02(2006.01)I | 主分类号 | C25D11/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人 | 董建林 |
| 主权项 | 图案式微弧氧化方法，其特征在于包含如下步骤：（1）在轻金属或轻金属合金的产品的表面预先设计好图案；（2）避开设计好的图案，在产品上印刷或喷涂抗微弧氧化物质；（3）将产品置入微弧氧化槽进行微弧氧化；（4）待陶瓷膜生成之后，取出产品将抗微弧氧化物质去除。 | ||
| 地址 | 215300 江苏省苏州市昆山市经济技术开发区昆嘉路1098号 | ||