一种湿法腐蚀与干法刻蚀相结合图形化蓝宝石的方法

摘要

本发明公开了一种湿法腐蚀与干法刻蚀相结合图形化蓝宝石衬底的方法。该方法具体步骤如下：在蓝宝石衬底上沉积一层二氧化硅膜；利用光刻技术在所述的二氧化硅膜上制备出带图形的光刻胶掩膜；将光刻图形刻蚀到二氧化硅膜上；以图形化的二氧化硅膜为掩膜，采用湿法腐蚀结合短时间干法刻蚀的方法，将图形刻蚀到蓝宝石衬底上；湿法腐蚀去掉二氧化硅膜，并将蓝宝石衬底清洗干净，完成图形化蓝宝石衬底的制备。该方法采用将湿法腐蚀与干法刻蚀相结合，并通过优化相关的工艺参数，既保证了刻蚀速率，又能降低刻蚀成本，同时还能获得较好的图形精度，达到良好的刻蚀效果。该图形化的蓝宝石衬底可用于低位错密度、高晶体质量氮化物的外延生长。

主权项

一种湿法腐蚀与干法刻蚀相结合图形化蓝宝石的方法，该方法包括以下步骤：A、在蓝宝石衬底上沉积一层二氧化硅膜；B、利用光刻技术在所述的二氧化硅膜上制备出带图形的光刻胶掩膜；C、将光刻图形刻蚀到二氧化硅膜上；D、以图形化的二氧化硅膜为掩膜，采用湿法腐蚀后结合干法刻蚀的方法，将图形刻蚀到蓝宝石衬底上；E、湿法腐蚀去掉二氧化硅膜，并将蓝宝石衬底清洗干净，完成图形化蓝宝石衬底的制备。