带电粒子束光刻系统以及目标定位装置

摘要

本发明涉及一种带电粒子束光刻系统，包括：带电粒子光柱，设置在真空室内，用于将带电粒子束投射到目标上，其中光柱包括偏转装置，用于使带电粒子束在偏转方向上偏转；目标定位装置包括用于承载目标的承载件，以及用于承载和沿第一方向移动承载件的工作台，其中，第一方向不同于偏转方向，其中，目标定位装置包括用于使工作台在第一方向上相对于带电粒子光柱移动的第一致动器，其中，承载件可移动地设置在工作台上，并且其中，目标定位装置包括用于将承载件相对于工作台保持在第一相对位置中的保持装置。

主权项

一种带电粒子束光刻系统，包括：带电粒子光柱，设置在真空室中，用于将带电粒子束投射到目标上，其中，所述柱包括用于使所述带电粒子束在偏转方向上偏转的偏转装置，目标定位装置，包括用于承载所述目标的承载件、以及用于承载并沿第一方向移动所述承载件的工作台，其中，所述第一方向不同于所述偏转方向，其中，所述目标定位装置包括用于使所述工作台在所述第一方向上相对于所述带电粒子光柱移动的第一致动器，其中，所述承载件可移动地设置在所述工作台上，并且其中，所述目标定位装置包括用于将所述承载件相对于所述工作台保持在第一相对位置中的保持装置。