曝光装置及元件制造方法

摘要

曝光装置(EX)具有投影光学系统(PL)。投影光学系统(PL)，具有最接近其像面的第1光学元件(LS1)、及次于第1光学元件(LS1)接近像面的第2光学元件(LS2)。第1光学元件(LS1)，具有：配置成与基板(P)表面对向的下面(T1)、及配置成与第2光学元件(LS2)对向的上面(T2)。以第2液体(LQ2)充满于第1光学元件(LS1)的上面(T2)与第2光学元件(LS2)之间，以在上面(T2)中、在包含曝光用光(EL)通过的区域(AR’)的区域形成液浸区域，通过第1光学元件(LS1)的下面(T1)侧的第1液体(LQ1)、与上面(T2)侧的第2液体(LQ2)将曝光用光(EL)照射于基板(P)上，由此使基板(P)曝光。如此能防止因光学元件污染使曝光精度劣化，并抑制液浸区域的巨大化。

主权项

一种曝光装置，是通过第1液体将曝光用光照射于基板上以使基板曝光，其特征在于，具有：投影光学系统，具有多个元件，其包含最接近像面的第1元件、以及次于该第1元件接近该像面的第2元件；第1液浸机构，是将该第1液体供应至该第1元件与该基板之间；第2液浸机构，是将第2液体供应至该第1元件与该第2元件之间；该第1元件，具有配置成与该基板表面对向、使曝光用光通过的第1面；以及配置成与该第2元件对向、使曝光用光通过的第2面；该第1液浸机构，具有使该曝光用光通过的开口、以及于该开口周围配置成与该基板表面对向的平坦液体接触面；该第1液浸机构，具有用以将该第1液体供应至该第1元件与该基板之间的空间的供应口、以及从该基板上方回收该第1液体的回收口；该第1液浸机构的该回收口配置成包围该液体接触面；于该第1液浸机构的该回收口配置多孔构件；该第2液浸机构，具有供应该第2液体的供应口与回收该第2液体的回收口；使曝光用光通过在该第1元件的第1面与该基板间的该第1液体、以及在该第1元件的第2面与该第2元件间的该第2液体而照射于该基板上，以使该基板曝光。