| 主权项 |
一种用于使晶圆(900,1250)与光罩(1226)对齐之系统，该系统包含：该光罩(1226)，其包含：设计区域；第一个对齐记号(102,104,210A,210B,210C,210D)；和第二个对齐记号(102,104,210A,210B,210C,210D)，其依光罩中心点对称于该第一个对齐记号(102,104,210A,210B,210C,210D)；至少一条与至少一个对齐记号(102,104,210A,210B,210C,210D)交叉的额外斜线(112,114)，用以使依据X架构(X initiative)之元件和接线的对准更加精确。如申请专利范围第1项之系统，复包括处理器(1212)，其允许使用者选择和放置至少一条额外斜线(112,114)以便与至少一个对齐记号(102,104,210A,210B,210C,210D)交叉。如申请专利范围第1项之系统，其中，该斜线(112,114)为相对于第一个和第二个对齐记号(102,104,210A,210B,210C,210D)呈45,135,225和315度的其中之一的角度，其中，对齐记号(102,104,210A,210B,210C,210D)包括两条相交且互相垂直的直线。如申请专利范围第1项之系统，复包括记忆体(1214)，其与该处理器(1212)操作地耦接以便依据先前的操作协助增加额外线(112,114)。如申请专利范围第1项之系统，其中，该处理器(1212)决定在对齐记号(102,104,210A,210B,210C,210D)内得到期望精确度，所需要的额外线(112,114)的数量。一种晶圆对齐系统(1330,1430)和晶圆制造系统之其中一者或多者，使用如申请专利范围第1项之系统。一种用于协助晶圆对齐的方法，包括下列步骤：使用光罩(1226)，其包含：设计区域；第一个对齐记号(102,104,210A,210B,210C,210D)；和第二个对齐记号(102,104,210A,210B,210C,210D)，其依光罩中心点对称于该第一个对齐记号(102,104,210A,210B,210C,210D)；增加至少一条与至少一个对齐记号(102,104,210A,210B,210C,210D)交叉的额外斜线(112,114)，用以协助更精确的对齐。如申请专利范围第7项之方法，复包括使用处理器选择和放置至少一条额外斜线(112,114)以便与至少一个对齐记号(102,104,210A,210B,210C,210D)交叉。如申请专利范围第8项之方法，其中，该斜线包括相对于该对齐记号(102,104,210A,210B,210C,210D)呈0,45,90,135,180,225,270,315和360度的至少其中之一的角度。一种对齐晶圆(900,1250)和测量叠对误差之方法，该方法包括：用于为对齐记号(102,104,210A,210B,210C,210D)增加至少一条额外斜线(112,114)以协助更精确的晶圆对齐的手段；用于增加至少一条额外斜线段(112,114)以协助更精确的叠对的手段；以及用于利用处理器选择和放置至少一条额外斜线(112,114)以便与至少一个对齐记号(102,104,210A,210B,210C,210D)交叉的手段。 |
