| 主权项 |
一种经涂布之基板，包括：涂布组成物层，其可经处理以提供不同的水接触角；以及光阻层，其系被覆于该涂布组成物层上。如申请专利范围第1项之经涂布之基板，其中，该涂布组成物层包括一种或多种含氧成分。如申请专利范围第1项之经涂布之基板，其中，该水接触角系藉由使用酸或硷处理而予以改变。如申请专利范围第1项之经涂布之基板，其中，该涂布组成物包括一种或多种成分，该成分系包括光酸不稳定基团及/或硷反应性基团。一种经涂布之基板，包括：可交联涂布组成物层，其系包括一种或多种成分，该成分包括一种或多种光酸不稳定基团及/或硷反应性基团；以及光阻层，其系被覆于该涂布组成物层上。一种形成光阻浮雕图像之方法，其包括：于基板上施加涂布组成物，该施加的组成物可经处理以提供不同的水接触角；将光阻组成物施加于该涂布组成物层上；以及将该光阻层曝光与显影以提供光阻浮雕图像。如申请专利范围第6项之方法，其中，所施加的该涂布组成物系使用来自光阻层的光酸予以处理，以于该与光酸接触的涂布组成物区域提供减小的水接触角。如申请专利范围第6项之方法，其中，该涂布组成物层包括一种或多种含氧成分。如申请专利范围第6项之方法，其中，该涂布组成物包括含有酸不稳定基团或酸酐基团之成分。一种与披覆光阻组成物并用之可交联抗反射组成物，该抗反射组成物包括一种或多种成分，该成分系包括一种或多种酸不稳定基团及/或一种或多种硷反应性基团。 |
