| 主权项 |
一种增强化学型光阻材料，其特征系含有一种或两种以上之下述一般式(1)~(7)表示具有氟化烷基及吗啉结构的胺化合物，@sIMGTIF!d10001.TIF@eIMG!(式中，Rf系表示氢原子之一部份或全部被氟原子取代之碳数1~20之直链状、支链状或环状的烷基，R1系表示氢原子或甲基，R2系表示氢原子或氢原子之一部份或全部可被氟原子取代之碳数1~10之直链状、支链状或环状的醯基)。一种增强化学型光阻材料，其特征系含有(A)一种或两种以上之下述一般式(1)~(7)表示具有氟化烷基及吗啉结构之胺化合物(B)有机溶剂(C)具有以酸不稳定基保护之酸性官能基之硷不溶性或难溶性的树脂，该酸不稳定基脱去保护时，成为硷可溶性的基底树脂(D)酸产生剂@sIMGTIF!d10002.TIF@eIMG!(式中，Rf系表示氢原子之一部份或全部被氟原子取代之碳数1~20之直链状、支链状或环状的烷基，R1系表示氢原子或甲基，R2系表示氢原子或氢原子之一部份或全部可被氟原子取代之碳数1~10之直链状、支链状或环状的醯基)。一种图型形成方法，其特征系含有(1)将申请专利范围第1或2项之增强化学型光阻材料涂布于基板上的步骤(2)接着加热处理后，经由光罩以波长300nm以下之高能量线或电子射线进行曝光的步骤(3)加热处理后，使用显像液进行显像的步骤。 |
