| 主权项 |
一种常压等离子体清洗装置，其特征在于包括：连接于交流电源之电源电极，该电源电极呈对应于表面处理对象物之剖面形状并具有可进行电气反应之外表面面积；与该电源电极之外表面保持间距而设置之接地电极，该接地电极具有可使其与该电源电极反应而生成之等离子体气体通过的喷射通孔；用于固定该电源电极与接地电极而使两者维持一定间距之框架，该框架具有连通于该接地电极之喷射通孔之开放部；及设置于该框架之气体供给部，以用于向该电源电极与接地电极之间供给气体。如请求项1之常压等离子体清洗装置，其特征在于该框架包括：遮盖该电源电极及接地电极的一端部之第一框架；遮盖该电源电极及接地电极的另一端之第二框架；以一定宽度设置在该电源电极与接地电极之间的间距固定件。如请求项2之常压等离子体清洗装置，其特征在于该框架亦包括向该第一框架及第二框架之外部突出一定长度之对象物间距维持件，以使接地电极与表面处理对象物维持一定间距。如请求项1之常压等离子体清洗装置，其特征在于该电源电极呈圆形剖面形状或四边形剖面形状。 |
