发明名称 矽酮组成物以及具有由该组成物所获得的黏着层之黏着性薄膜
摘要
申请公布号 申请公布日期 2011.09.11
申请号 TW095102428 申请日期 2006.01.23
申请人 信越化學工業股份有限公司 日本 发明人 青木俊司 日本;山本昭 日本
分类号 C09D183/04;B32B7/12 主分类号 C09D183/04
代理机构 代理人 詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;萧锡清 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1
主权项 一种黏着性薄膜,其包含基材薄膜和形成于该基材薄膜单面上的黏着层,该黏着层由含有以下成分的矽酮组成物调制而成:(A)下述式(1)所示的1分子中含有2个以上链烯基的聚二有机矽氧烷,95~40重量份:@sIMGTIF!d10021.TIF@eIMG!(式中、R2为不具有脂肪属不饱和键的取代或者非取代1价烃基;R3为含有链烯基的有机基;a为0~3的整数;m为0以上,n为10以上的整数;当a为0时m为2以上;m+n为使该聚二有机矽氧烷在25℃时黏度为10mPa.s以上的数);(B)含有R13SiO0.5单元以及SiO2单元,并且R13SiO0.5单元/SiO2单元的莫耳比为0.6~1.7的聚有机矽氧烷(R1为选自甲基、乙基、丙基、丁基、环烷基、苯基、3-胺基丙基、3,3,3-三氟丙基、3-羟基丙基以及3-氰基丙基的基),5~60重量份,其中(A)与(B)的合计为100重量份;(C)下述式(2)或式(3)所示的含有SiH基的聚有机矽氧烷:@sIMGTIF!d10022.TIF@eIMG!@sIMGTIF!d10023.TIF@eIMG!(在上述式中,R2是同一或者不同的不具有脂肪属不饱和键的取代或者非取代1价烃基;b为0或者1,p、q为0以上整数;当b为0时,p为2以上;p+q为该有机氢聚矽氧烷在25℃时黏度为1~5000mPa.s的整数,并且,s为2以上整数,t为0以上整数,且s+t≧3);(D)控制剂,选自3-甲基-1-丁炔-3-醇、3-甲基-1-戊炔-3-醇、3,5-二甲基-1-己炔-3-醇、1-乙炔基环己醇、3-甲基-3-三甲基矽氧基-1-丁炔、3-甲基-3-三甲基矽氧基-1-戊炔、3,5-二甲基-3-三甲基矽氧基-1-己炔、1-乙炔基-1-三甲基矽氧基环己烷、双(2,2-二甲基-3-丁氧基)二甲基矽烷、1,3,5,7-四甲基-1,3,5,7-四乙烯基环四矽氧烷、1,1,3,3-四甲基-1,3-二乙烯基二矽氧烷,相对于(A)和(B)的合计100重量份为0~8.0重量份;(E)加成反应催化剂,选自含有铂、铑或钌的化合物,相对于(A)和(B)的合计100重量份、作为贵金属成分为5~2000ppm;以及(F)有机溶剂,选自芳香族烃系溶剂、脂肪族烃系溶剂、烃系溶剂、酮系溶剂、酯系溶剂、醚系溶剂、含有酯醚部分的溶剂、矽氧烷系溶剂以及这些溶剂的混合溶剂,相对于(A)和(B)的合计100重量份为25~900重量份;且其特征在于,在(A)聚二有机矽氧烷100g中含有0.001~0.04莫耳的链烯基,以及在组成物中,以SiH基对(A)成分中链烯基的莫耳比为0.8~10的量,含有(C)含有SiH基的聚有机矽氧烷,其中在矽酮黏着剂组成物中,(A)以及(B)成分的一部分或者全部,为(A)以及(B)成分在硷性催化剂存在下进行反应而获得的生成物。如申请专利范围第1项所述之黏着性薄膜,其中:矽酮组成物的(A)成分与(B)成分的重量比为55/45~40/60,且(A)成分的链烯基含量为0.005~0.04莫耳/100g。如申请专利范围第1项所述之黏着性薄膜,其中:(A)聚二有机矽氧烷的链烯基为乙烯基。如申请专利范围第1项至第3项中任何一项所述之黏着性薄膜,其中:黏着层包含厚25μm的聚对苯二甲酸乙二酯薄膜和该聚对苯二甲酸乙二酯薄膜上厚30μm的黏着剂层,针对具有该黏着层的薄膜,依照JIS Z 0237的180°剥离试验方法所测定的黏着力为0.01~2.5N/10mm。如申请专利范围第4项所述之黏着性薄膜,其中:黏着层具有0.01~0.5N/10mm的黏着力。如申请专利范围第1项至第5项中任何一项所述之黏着性薄膜,其中:基材薄膜和黏着层之间具有底料层。如申请专利范围第6项所述之黏着性薄膜,其中:基材薄膜表面经过电晕处理,并且该电晕处理过的表面上具有底料层。
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