发明名称 实施以特征间距为基础的图案分解方法
摘要
申请公布号 TWI348591 申请公布日期 2011.09.11
申请号 TW096134262 申请日期 2007.09.13
申请人 ASML遮盖器具公司 发明人 朴俊求
分类号 G03F1/14 主分类号 G03F1/14
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种用于将一含有待印刷于一晶圆上之特征之目标图案分解为多个图案的方法,其包含以下步骤:(a)界定一表示一函数之核心,其在一内半径内具有正值且在一外半径中具有负值;(b)利用复数个像素来界定该等特征;(c)将该核心安置于该复数个像素之一第一像素上;(d)判定该核心在该复数个像素中之每一者之位置处的值,储存用于该复数个像素中之每一者之该值,以便界定一用于该复数个像素中之每一者之像素值;(e)将与该复数个像素中之一给定像素相关联的一先前储存之值与在步骤(d)中的判定该给定像素之该像素值相加;(f)将该核心安置于该复数个像素中之另一像素上,且重复步骤(d)-(f)直至已处理该复数个像素中之每一者;及(g)以该给定像素之该像素值为基础来判定该给定像素在一第一图案或一第二图案中之置放。如请求项1之用于分解一含有待印刷于一晶圆上之特征之目标图案的方法,其中该外半径对应于一间距值,该间距值小于一用于一被用于使该多个图案成像之过程的最小间距。如请求项1之用于分解一含有待印刷于一晶圆上之特征之目标图案的方法,其中当将该核心安置于一给定像素上时,该核心之中心被安置于该给定像素上。如请求项1之用于分解一含有待印刷于一晶圆上之特征之目标图案的方法,其中与该复数个像素中之每一者相关联之该值最初被指派为零。如请求项1之用于分解一含有待印刷于一晶圆上之特征之目标图案的方法,其中具有一正值之该等像素被指派至该第一图案,且具有一负值之像素被指派至该第二图案。如请求项1之用于分解一含有待印刷于一晶圆上之特征之目标图案的方法,其中一给定特征可被分割为多个部分,其中该经分割之特征的一第一部分被指派至该第一图案,且该经分割之特征的一第二部分被指派至该第二图案。一种电脑可读取储存媒体,其储存一用于将一含有待印刷于一晶圆上之特征的目标图案分解为多个图案的电脑程式,其中当执行时,该电脑程式导致一电脑实施以下步骤:(a)界定一表示一函数之核心,其在一内半径内具有正值且在一外半径中具有负值;(b)利用复数个像素来界定该等特征;(c)将该核心安置于该复数个像素之一第一像素上;(d)判定该核心在该复数个像素中之每一者之位置处的值,储存用于该复数个像素中之每一者之该值,以便界定一用于该复数个像素中之每一者之像素值;(e)将与该复数个像素中之一给定像素相关联的一先前储存之值与在步骤(d)中的判定该给定像素之该像素值相加;(f)将该核心安置于该复数个像素中之另一像素上,且重复步骤(d)-(f)直至已处理该复数个像素中之每一者;及(g)以该给定像素之该像素值为基础来判定该给定像素在一第一图案或一第二图案中之置放。如请求项7之电脑可读取储存媒体,其中该外半径对应于一间距值,该间距值小于一用于一被用于使该多个图案成像之过程的最小间距。如请求项7之电脑可读取储存媒体,其中当将该核心安置于一给定像素上时,该核心之中心被安置于该给定像素上。如请求项7之电脑可读取储存媒体,其中与该复数个像素中之每一者相关联之该值最初被指派为零。如请求项7之电脑可读取储存媒体,其中具有一正值之该等像素被指派至该第一图案,且具有一负值之像素被指派至该第二图案。如请求项7之电脑可读取储存媒体,其中一给定特征可被分割为多个部分,其中该经分割之特征的一第一部分被指派至该第一图案且该经分割之特征的一第二部分被指派至该第二图案。一种器件制造方法,其包含以下步骤:(a)界定一表示一函数之核心,其在一内半径内具有正值且在一外半径中具有负值;(b)利用复数个像素来界定特征;(c)将该核心安置于该复数个像素之一第一像素上;(d)判定该核心在该复数个像素中之每一者之位置处的值,储存用于该复数个像素中之每一者之该值以便界定一用于该复数个像素中之每一者之像素值;(e)将与该复数个像素中之一给定像素相关联的一先前储存之值与在步骤(d)中的判定该给定像素之该像素值相加;(f)将该核心安置于该复数个像素中之另一像素上,且重复步骤(d)-(f)直至已处理该复数个像素中之每一者;及(g)以该给定像素之该像素值为基础来判定该给定像素在一第一图案或一第二图案中之置放。如请求项13之器件制造方法,其中该外半径对应于一间距值,该间距值小于一用于一被用于使该多个图案成像之过程的最小间距。如请求项13之器件制造方法,其中当将该核心安置于一给定像素上时,该核心之中心被安置于该给定像素上。如请求项13之器件制造方法,其中与该复数个像素中之每一者相关联的该值最初被指派为零。如请求项13之器件制造方法,其中具有一正值之该等像素被指派至该第一图案,且具有一负值之像素被指派至该第二图案。如请求项13之器件制造方法,其中一给定特征可被分割为多个部分,其中该经分割之特征的一第一部分被指派至该第一图案且该经分割之特征的一第二部分被指派至该第二图案。一种用于产生待用于一光微影过程中之光罩的方法,该方法包含以下步骤:(a)界定一表示一函数之核心,其在一内半径内具有正值且在一外半径中具有负值;(b)利用复数个像素来界定特征;(c)将该核心安置于该复数个像素之一第一像素上;(d)判定该核心在该复数个像素中之每一者之位置处的值,储存用于该复数个像素中之每一者之该值,以便界定一用于该复数个像素中之每一者之像素值;(e)将与该复数个像素中之一给定像素相关联的一先前储存之值与在步骤(d)中的判定该给定像素之该像素值相加;(f)将该核心安置于该复数个像素中之另一像素上,且重复步骤(d)-(f)直至已处理该复数个像素中之每一者;(g)以该给定像素之该像素值为基础来判定该给定像素在一第一图案或一第二图案中之置放;及(h)产生一对应于该第一图案之第一光罩及一对应于该第二图案之第二光罩。如请求项19之用于产生光罩的方法,其中该外半径对应于一间距值,该间距值小于一用于一被用于使该多个图案成像之过程的最小间距。如请求项19之用于产生光罩的方法,其中当将该核心安置于一给定像素上时,该核心之中心被安置于该给定像素上。如请求项19之用于产生光罩的方法,其中与该复数个像素中之每一者相关联的值最初被指派为零。如请求项19之用于产生光罩的方法,其中具有一正值之该等像素被指派至该第一图案,且具有一负值之像素被指派至该第二图案。
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