发明名称 搅碎装置
摘要
申请公布号 TWI348403 申请公布日期 2011.09.11
申请号 TW097103613 申请日期 2008.01.31
申请人 凃彦伯 发明人 凃彦伯
分类号 B09B3/00;A01K1/01;B02C18/06;B01F7/06 主分类号 B09B3/00
代理机构 代理人
主权项 一种搅碎装置,其包含:一容装单元,具有一容置空间及一用以覆盖该容置空间之第一盖子;一输送单元,具有一输送装置,用以输送待处理物至该容装单元;一清洁单元,用以清洁输送装置;一搅碎液化单元,具有一装设于该容置空间内之搅碎器,用以带动该容置空间中之待处理物循环流动并同时搅碎液化该待处理物;一排放单元,用以排放容装单元内之物质;及一控制单元,具有一控制器,用以控制该容装单元、输送单元、清洁单元、搅碎液化单元及排放单元。如请求项1所述之搅碎装置,其中该搅碎器为一螺旋桨刀具,装设于该容置空间中。如请求项1所述之搅碎装置,另包括一搅碎器清洁装置,用以清洁该搅碎器。如请求项1所述之搅碎装置,其中该容装单元具有一底壁、一围壁、及一第一隔离壁,该围壁系由底壁周缘往上延伸,该第一隔离壁系延伸于底壁上,该容置空间系由该底壁与围壁共同界定,且该底壁、围壁及第一隔离壁将该容置空间区分界定为一第一区部、一第二区部及二流通口,其中二流通口相互间隔且连通该第一区部及该第二区部,该容置空间为可循环流通之空间。如请求项4所述之搅碎装置,其中该搅碎器设置于一第一流通口,该搅碎装置另包括复数个第三喷洒器,设置于该第一流通口之周缘上相对位置,以清洁该搅碎器。如请求项1所述之搅碎装置,其中该输送装置具有一第一滚轮、一第二滚轮及一输送带,该第二滚轮轴向平行地与该第一滚轮间隔设置,该输送带圈套于该第一、第二滚轮上。如请求项6所述之搅碎装置,其中该第二滚轮之高度装设较第一滚轮高,使该输送带呈往一第一方向斜下。如请求项6所述之搅碎装置,其中该输送带具有二边条,设置于该输送带左右两侧缘。如请求项6所述之搅碎装置,其中该输送带具有复数个阻溅片,间隔地设置于该输送带之一表面。如请求项6所述之搅碎装置,其中该输送带具有复数个阻移条,间隔地设置于该输送带之一表面。如请求项1所述之搅碎装置,其中该控制单元具有一启始侦测装置,用以侦测输送装置上之待处理物、输送装置上使用者出现、离开、置放待处理物之动作,且可经调整,以侦测待处理物之体积。如请求项1所述之搅碎装置,其中该控制单元具有一物体侦测器,用以侦测输送装置上之待处理物,且该物体侦测器可经调整,以侦测待处理物之体积。如请求项1所述之搅碎装置,其中该清洁单元具有一第一喷洒器,用以喷洒液体至输送装置。如请求项1所述之搅碎装置,其中该清洁单元具有至少一清洁轮刷及至少一第一除物器,该清洁轮刷用以清洁该输送装置,该第一除物器用以清除附着于该清洁轮刷上之物质。如请求项14所述之搅碎装置,其中该第一除物器是刮板形式、底部缕空以利于液体流穿且顶抵于该清洁轮刷周缘。如请求项1所述之搅碎装置,其中该清洁单元具有一乾燥装置,用以乾燥该输送装置。如请求项16所述之搅碎装置,其中该乾燥装置具有至少一乾燥轮刷及至少一第二除物器,乾燥轮刷用以清除附着于输送装置上之液体,该第二除物器用以清除附着于该乾燥轮刷上之物质。如请求项17所述之搅碎装置,其中该第二除物器是刮板形式、底部缕空以利于液体流穿且顶抵于该乾燥轮刷周缘。如请求项1所述之搅碎装置,其中该清洁单元具有一导引装置,围覆于该清洁单元并导引物质进入容装单元中。如请求项16所述之搅碎装置,其中该清洁单元具有一导引装置,围覆于该清洁单元并导引物质进入容装单元中。如请求项1所述之搅碎装置,另包括一驱动装置,用以驱动该输送单元、清洁单元、排放单元及搅碎液化单元。如请求项1所述之搅碎装置,其中该控制单元更具有一进水装置,用以输送液体进入容装单元,该进水装置由控制器控制启闭且于容装单元充满液体时自动关闭。如请求项22所述之搅碎装置,其中该控制单元更具有一电流侦测器,用以侦测驱动该搅碎液化单元之一驱动电流,当该驱动电流高于一预定值时,该控制器开启进水装置以输送液体进入容装单元。如请求项1所述之搅碎装置,其中该控制单元更具有一第一水位侦测器,用以侦测该容装单元中之水位。如请求项24所述之搅碎装置,其中当第一水位侦测器侦测该容装单元中之液体到达一预定最高水位时,该排放单元将液体排出以避免液体溢出容装单元,并将水位维持在该预定最高水位。如请求项1所述之搅碎装置,其中该排放单元具有一抽取器,用以将容装单元中之物质排出。如请求项1所述之搅碎装置,其中该第一盖子是用以气密地盖合该容装单元。如请求项1所述之搅碎装置,更包含一第二盖子,用以覆盖该第一盖子上方。如请求项1所述之搅碎装置,更包含一第二盖子,设置于第一盖子上方,该第二盖子关闭时其一侧缘搭盖该输送装置一侧缘而与该输送装置共同盖合搅碎装置之壳体的上开放端,该输送装置开始运转时,该控制器控制开启该第一盖子与第二盖子,该输送装置停止运转后,该控制器关闭该第一盖子与第二盖子。如请求项1所述之搅碎装置,其中该容装单元具有一通气管,其管内空间与该容置空间相连通,该通气管一部分之位置高于该容置空间最高水平位置。如请求项30所述之搅碎装置,其中,该控制单元具有一第二水位侦测器,用以侦测该通气管之水位,以控制该控制器之进水。如请求项30所述之搅碎装置,该通气管具有一出口区部,其位置高于该容置空间最高水平位置,该出口区部之出口端缘具有一未气密盖合该出口端缘之出口盖,,且该出口盖随时保持盖合该通气管。如请求项1所述之搅碎装置,其中该容装单元具有一通气圆筒,该通气圆筒具有一圆筒斜壁、一圆筒围壁、一圆筒顶壁、一下通气口、一上通气口及一圆筒空间,该圆筒空间系由该圆筒斜壁、该圆筒围壁、该圆筒顶壁、该下通气口及该上通气口所界定,且其位置高于该容置空间之最高水平位置并与该容置空间相连通,该圆筒空间内具有一浮球,其直径大于该下通气口及上通气口之直径且与该圆筒斜壁因非气密盖合使得空气能通过,该浮球受液体浮力上升而气密地顶封住该上通气口,且该浮球于无液体存在该圆筒空间时随时保持盖合该下通气口。如请求项1所述之搅碎装置,另包括一气体抽取装置,用以将容装单元内气体抽出。如请求项1所述之搅碎装置,另包括一伸缩单元,用以将该输送单元伸缩以扩大缩小可负载待处理物之面积。如请求项35所述之搅碎装置,其中该伸缩单元具有至少一第四滚轮,用以移动以伸缩该输送单元。如请求项36所述之搅碎装置,其中该伸缩单元具有至少一第五滚轮,用以移动且与该第四滚轮共同作用以伸缩该输送单元。如请求项35所述之搅碎装置,其中该伸缩单元具有一拉紧装置,用以拉紧输送装置。如请求项1所述之搅碎装置,另包括一自动盖合装置,使得该搅碎装置能装设在行走平面之下,用以自动盖合该搅碎装置。如请求项1所述之搅碎装置,另包括一踏板,用以让使用者接近及登上输送带表面。如请求项1所述之搅碎装置,另包括至少一可直立及平放之阻溅板,设置于搅碎装置之至少一侧面。如请求项1所述之搅碎装置,其中该容装单元具有一可使物体水平循环流动之容置空间。如请求项1所述之搅碎装置,其中该容装单元具有一可使物体垂直循环流动之容置空间。如请求项1所述之搅碎装置,另包括一第一阻溅装置,该装置包括至少一阻溅杆、至少一阻溅伸缩片及一第一阻溅伸缩控制器,该第一阻溅伸缩控制器用以控制该阻溅杆升起,以带动该阻溅伸缩片展开,展开之阻溅伸缩片设置于搅碎装置之至少一侧面。如请求项1所述之搅碎装置,另包括一第二阻溅装置,该装置包括至少一伸缩杆、至少一阻溅盖体、至少一阻溅伸缩片、至少一储存轴、至少一第三除物器、至少一第二喷洒器及一第二阻溅伸缩控制器,该伸缩杆连接至该阻溅盖体,该第二喷洒器设置于该阻溅盖体内,该阻溅伸缩片卷存于该储存轴,且该阻溅伸缩片之一端固接于该阻溅盖体,该第二阻溅伸缩控制器用以控制该伸缩杆之升起或降下,以带动该阻溅盖体升起或降下,升起时展开该阻溅伸缩片,展开之阻溅伸缩片设置于搅碎装置之一侧面,该第二喷洒器用以喷洒液体至该阻溅伸缩片,该第三除物器用以清除该阻溅伸缩片上之物体。
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