发明名称 液处理装置
摘要
申请公布号 申请公布日期 2011.09.11
申请号 TW096121655 申请日期 2007.06.15
申请人 东京威力科创股份有限公司 发明人 伊藤规宏
分类号 H01L21/304;H01L21/68 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种液处理装置,其特征系具备:基板保持部,其系将基板保持于水平,且可与基板一起旋转;旋转杯,其系围绕被保持于上述基板保持部的基板,且可与基板一起旋转,接受从基板甩掉的处理液;旋转机构,其系使上述旋转杯及上述基板保持部一体旋转;处理液供给机构,其系对基板供给处理液;环状的排液杯,其系设成围绕上述旋转杯的外侧,接受从上述旋转杯排出的处理液而排液;环状的排气杯,其系设成可收容上述排液杯且与上述排液杯同心状,主要取入来自上述旋转杯及其周围的气体成份;排气口,其系连接至上述排气杯,而使能够排出被取入上述排气杯的上述气体成份;及气流调整机构,其系介在于上述排气杯与上述排气口之间,调整气流,而使上述气体成份的气流能够在上述排气杯内实质上从全周往上述排气口流动。如申请专利范围第1项之液处理装置,其中,上述气流调整机构系具备环状的缓冲空间,其系于上述排气杯内设成与上述排液杯同心状且连接至上述排气口。如申请专利范围第2项之液处理装置,其中,上述排气口系配置于上述缓冲空间的正下方的至少一处。如申请专利范围第2项之液处理装置,其中,上述缓冲空间系挖空上述排液杯的底部而形成。如申请专利范围第2项之液处理装置,其中,上述气流调整机构,系具备配设于上述排液杯与上述排气杯之间,使位于上述基板保持部的上侧之上述排气杯的上侧排气取入口与上述缓冲空间实质上连通于全周之环状的外侧通气抵抗部,上述外侧通气抵抗部系设定成对来自上述上侧排气取入口的排气流赋予所定的通气抵抗。如申请专利范围第5项之液处理装置,其中,对应于上述外侧通气抵抗部,在上述排液杯与上述排气杯之间配置有环状的构件,上述外侧通气抵抗部系由在上述环状的构件均一形成于全周的复数个通气孔所构成。如申请专利范围第5项之液处理装置,其中,在上述排液杯的外侧壁与上述排气杯的外侧壁之间形成有环状的外侧环状空间,连接上述上侧排气取入口与上述外侧通气抵抗部。如申请专利范围第1项之液处理装置,其中,上述气流调整机构,系具备配设于上述排液杯与上述排气杯之间,使位于上述基板保持部的下侧之上述排气杯的下侧排气取入口与上述缓冲空间实质上连通于全周之环状的内侧通气抵抗部,上述内侧通气抵抗部系设定成对来自上述下侧排气取入口的排气流赋予所定的通气抵抗。如申请专利范围第8项之液处理装置,其中,对应于上述内侧通气抵抗部,在上述排液杯与上述排气杯之间配设有复数个间隔物,上述内侧通气抵抗部系由在上述间隔物间均一形成于全周的复数个开口所构成。如申请专利范围第8项之液处理装置,其中,在上述排液杯的内侧壁与上述排气杯的内侧壁之间形成有环状的内侧环状空间,连接上述下侧排气取入口与上述内侧通气抵抗部。如申请专利范围第1项之液处理装置,其中,上述排液杯系内周部份经由固定部来固定于上述排气杯,外周部份在半径方向形成非拘束状态。如申请专利范围第11项之液处理装置,其中,上述固定部系连接上述排液杯的底部与上述排气杯的底部。如申请专利范围第12项之液处理装置,其中,上述排液杯系具有收容处理液的液收容部,上述固定部系比上述液收容部更靠内侧设成环状。如申请专利范围第13项之液处理装置,其中,上述排液杯系于比其底部的上述固定部更靠外周侧部份具有环状的挖空部,上述挖空部系规定从上述排液杯的上部到上述固定部之具有可挠性的圆筒部。如申请专利范围第13项之液处理装置,其中,上述固定部系沿着周方向具有复数个螺止部及复数个定位部。如申请专利范围第11项之液处理装置,其中,上述排液杯的上述外周侧部份的底部系可滑动被支持于上述排气杯的底部上。如申请专利范围第1项之液处理装置,其中,上述基板保持部系具有突出于背面的附属品,且上述排液杯系具有收容处理液的液收容部,在上述附属品与上述液收容部之间配设有藉由上述附属品所形成之遮蔽气流的遮蔽壁。如申请专利范围第17项之液处理装置,其中,上述附属品系构成可在上端部保持基板。如申请专利范围第17项之液处理装置,其中,上述遮蔽壁系形成圆筒状,而使能够在上述基板保持部的下方包围上述附属品。如申请专利范围第19项之液处理装置,其中,上述遮蔽壁系被形成于上述排液杯。如申请专利范围第21项之液处理装置,其中,藉由上述遮蔽壁,在上述排液杯中,比上述液收容部更靠内侧,接受漏出至上述基板保持部的背面的处理液之液接受部会被区分,上述液接受部系经由被形成于上述遮蔽壁的孔来连接至上述液收容部。如申请专利范围第19项之液处理装置,其中,上述遮蔽壁系从上述基板保持部的背面往下方形成。如申请专利范围第17项之液处理装置,其中,在上述旋转机构的旋转轴与上述遮蔽壁之间配设有区别上述基板保持部下方的上述旋转轴的周围环境与上述排液杯的周围环境之隔壁。如申请专利范围第23项之液处理装置,其中,更具备压力调节机构,其系调整由上述隔壁所区别的上述旋转轴侧的空间压力。如申请专利范围第23项之液处理装置,其中,更具备气体导入部,其系导入净化气体至由上述隔壁所区别的上述旋转轴侧的空间。如申请专利范围第23项之液处理装置,其中,在上述隔壁与上述遮蔽壁之间的上述附属品的下方位置配设有遮蔽上述气流的第2遮蔽壁。如申请专利范围第17项之液处理装置,其中,在上述基板保持部的下面,抑止上述附属品所产生之气流的形成之复数个凸状部会被形成弧状,在该凸状部之间配设有上述附属品。一种液处理装置,其特征系具备:基板保持部,其系将基板保持于水平,且可与基板一起旋转;旋转杯,其系围绕被保持于上述基板保持部的基板,且可与基板一起旋转,接受从基板甩掉的处理液;旋转机构,其系使上述旋转杯及上述基板保持部一体旋转;处理液供给机构,其系对基板供给处理液;环状的排液杯,其系设成围绕上述旋转杯的外侧,接受从上述旋转杯排出的处理液而排液;及环状的排气杯,其系设成可收容上述排液杯且与上述排液杯同心状,主要取入来自上述旋转杯及其周围的气体成份,上述排液杯系内周部份经由固定部来固定于上述排气杯,外周部份在半径方向形成非拘束状态。
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