| 主权项 |
一种曝光设备，系组构以使用来自一光源之光线，及一光学系统来曝光一光罩之图案于一平板上，该曝光设备包含：一光学系统，系组构来导入光线；一测量部件，系组构来测量已通过该光学系统之该光线的偏极化状态与一参考偏极化状态之间的偏差，该偏极化状态包含偏极化光线强度、该等偏极化光线强度间之比例、偏极化之程度、或皆垂直于光轴之两正交方向之延迟的至少其中之一；以及一控制器，系组构来依据藉由该测量部件所测量之该偏极化状态的该偏差，以控制该光源或该光学系统之至少一曝光参数，而不控制该光源或该光学系统之个别偏极化。如申请专利范围第1项之曝光设备，其中该控制器依据当该图案之大小或形状部分地改变时之该图案的改变资讯来控制该曝光资讯，以便使另一曝光设备能解析该光罩之该图案。如申请专利范围第1项之曝光设备，其中该光学系统包含一照明光学系统以及一投影光学系统，该照明光学系统组构来照明该光罩，该投影光学系统组构来投影该图案于该平板上，及该至少一曝光参数是该光线之一光谱带宽、一有效光源形状、该有效光源之一发光度分布、自该照明光学系统所发出之光线的一倾角、该投影光学系统之一数值孔径、该投影光学系统之一光瞳透射比分布、或该投影光学系统之一像差的至少其中之一。一种设定方法，系组构来设定一曝光参数，该曝光参数系用以使用一光学系统及来自一光源之光线来曝光一光罩之图案于一平板上，该设定方法包含以下步骤：取得已通过该光学系统之该光线的一偏极化状态与一参考偏极化状态之间的偏差，该偏极化状态包含偏极化光线强度、该等极化光线强度间之比例、偏极化之程度、或皆垂直于光轴之二正交方向之延迟的至少其中之一；以及依据该取得之该偏极化状态与该参考偏极化状态之间的偏差来设定该光源或该光学系统之至少一曝光参数，而不控制该光源或该光学系统之个别偏极化。如申请专利范围第4项之设定方法，其中：该光学系统包含一照明光学系统及一投影光学系统，该照明光学系统系组构来照明该光罩及该投影光学系统系组构来投影该图案于该平板上，以及该至少一曝光参数包含该光线之一光谱带宽、一有效光源形状、该有效光源之一发光度分布、自该照明光学系统所发出之光线的一倾角、该投影光学系统之一数值孔径、该投影光学系统之一光瞳透射比分布、或该投影光学系统之一像差的至少其中之一。如申请专利范围第4项之设定方法，其中该光学系统包含一照明光学系统，该照明光学系统系组构来照明该光罩，以及其中该设定步骤包含当偏极化之一实际程度并不在一可准许之范围内时，改变一累积之曝光剂量或一发射自该照明光学系统之用于各个影像高度的倾度之至少其中之一的步骤。如申请专利范围第4项之设定方法，其中：该光学系统包含一投影光学系统，该投影光学系统系组构来投影该图案于该平板上，以及该设定步骤包含当投影光学系统之双折射性或光瞳透射比之至少其中之一并不在一可准许之范围内时，改变曝光参数之至少其中之一的步骤，该等曝光参数包含该投影光学系统之像差或光瞳透射比。如申请专利范围第4项之设定方法，其中该取得步骤包含以下步骤：取得物理性质资讯，该物理性质资讯包含相关于该光学系统之一照明分布、一像差分布、一偏极化分布、或一光瞳透射比分布之资讯；以及取得该光罩之该图案的资讯，其中该曝光方法进一步包含依据该物理性质资讯及该图案之资讯来执行该图案之一影像品质的模拟之步骤，以及其中该设定步骤依据该模拟之一结果来设定曝光参数之至少其中之一，该等曝光参数包含该光源或该光学系统或该图案之一大小或形状。如申请专利范围第4项之设定方法，进一步包含以下步骤：取得在一曝光缝隙中之偏极化平均程度，做为该偏极化状态；以及依据在该曝光缝隙中之该偏极化平均程度，设定该曝光参数。如申请专利范围第4项之设定方法，进一步包含以下步骤：取得该偏极化状态之一曝光缝隙中之一影像高度分布；及依据该曝光缝隙中之该影像高度分布，设定该曝光参数。一种曝光方法，系组构来使用来自一光源之光线来曝光一光罩之图案于一平板上，该曝光方法包含以下步骤：使用申请专利范围第4项之设定方法设定该曝光参数；以及使用已经设定之该曝光参数来曝光该光罩之该图案于该平板上。一种装置制造方法，包含以下步骤：使用申请专利范围第11项之曝光方法曝光一平板；显影已经被曝光之该平板；及从该已经被显影之该平板形成一装置。一种非暂时性电脑可读取记录媒体，其记录一程式，该程式系组构以使一电脑设定一曝光参数，该曝光参数系用以使用一光学系统及来自一光源之光线来曝光一光罩之图案于一平板上，该程式包含以下步骤：取得已通过该光学系统之该光线的一偏极化状态与一参考偏极化状态之间的偏差，该偏极化状态包含偏极化光线强度、该等极化光线强度间之比例、每一偏极光线的偏极化之程度、或皆垂直于光轴之二正交方向之延迟的至少其中之一；以及依据该取得之该偏极化状态与该参考偏极化状态之间的偏差来设定该光源或该光学系统之至少一曝光参数，而不控制该光源或该光学系统之个别偏极化。 |
