发明名称 |
一种基于投影栅相位法测量系统的路径规划方法 |
摘要 |
本发明公开了一种基于投影栅相位法测量系统的路径规划方法,该方法能够规划大尺寸三维形貌测量中的传感器测量路径。本发明基于投影栅相位法,首先计算传感器最佳测量角度;再利用高斯球原理,进行姿态规划,从而确定传感器旋转测量姿态;然后利用聚类方法进行位置规划,划分视场,计算视场中心;最后,将视场中心投影,得到传感器测量路径规划结果。本发明可以规划出基于投影栅相位法测量系统的测量路径,保证测量的高效性、准确性和完整性。 |
申请公布号 |
CN102176211A |
申请公布日期 |
2011.09.07 |
申请号 |
CN201010607017.5 |
申请日期 |
2010.12.26 |
申请人 |
北京航空航天大学 |
发明人 |
赵慧洁;姜宏志;吴尽龙;李旭东 |
分类号 |
G06F17/50(2006.01)I;B23Q17/00(2006.01)I |
主分类号 |
G06F17/50(2006.01)I |
代理机构 |
北京慧泉知识产权代理有限公司 11232 |
代理人 |
王顺荣;唐爱华 |
主权项 |
一种基于投影栅相位法测量系统的路径规划方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)计算传感器最佳测量角度;(2)根据传感器最佳测量角度,进行基于高斯球原理的姿态规划,确定传感器旋转测量姿态;(3)利用聚类方法进行位置规划,计算视场中心;(4)将视场中心投影,得到传感器测量位置;(5)深孔深槽特殊规划,得到深孔深槽的测量路径结果。 |
地址 |
100191 北京市海淀区学院路37号北航17系 |