| 发明名称 | 适用于精细雾化CMP的一种碱性二氧化硅抛光液 | ||
| 摘要 | 本发明公开了适用于精细雾化CMP的一种碱性二氧化硅抛光液，其特征在于包括二氧化硅、氧化剂、表面活性剂，所述氧化剂为过氧化氢溶液，所述表面活性剂为聚乙二醇，所述二氧化硅的质量百分比为28%-32%，所述氧化剂的质量百分比为1%-3%，所述表面活性剂的质量百分比为1.5%-3.5%，所述二氧化硅包括硅溶胶和白碳黑，所述二氧化硅抛光液的pH值为9.5-11.5。本发明通过实验研究和分析，得到了适合雾化抛光工艺的SiO2抛光液。 | ||
| 申请公布号 | CN102174295A | 申请公布日期 | 2011.09.07 |
| 申请号 | CN201110073546.6 | 申请日期 | 2011.03.25 |
| 申请人 | 江南大学 | 发明人 | 李庆忠;翟靖 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I;C09K3/14(2006.01)I;H01L21/3105(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 无锡华源专利事务所 32228 | 代理人 | 聂汉钦 |
| 主权项 | 适用于精细雾化CMP的一种碱性二氧化硅抛光液，其特征在于：包括二氧化硅、氧化剂、表面活性剂，所述氧化剂为过氧化氢溶液，所述表面活性剂为聚乙二醇，所述二氧化硅的质量百分比为28%‑32%，所述氧化剂的质量百分比为1%‑3%，所述表面活性剂的质量百分比为1.5%‑3.5%，所述二氧化硅包括硅溶胶和白碳黑，所述SiO2抛光液的pH值为9.5‑11.5。 | ||
| 地址 | 214122 江苏省无锡市滨湖区蠡湖大道1800号 | ||