具有双接触面的静电吸盘

摘要

本实用新型涉及一种具有双接触面的静电吸盘，用于产生静电引力来吸持及固定晶片，包含基座和设置在基座顶部的介电层；介电层上放置有晶片，其特征在于，介电层包含若干分区，分别通过粗糙度不同的平面或是凹凸不平的表面与晶片接触，因而能够分别控制晶片不同区域的温度，在与平面分区接触的晶片区域能够加速散热，获得较低的温度，而在与凹凸表面的分区接触的晶片区域获得较高的温度，因此能够对晶片不同区域的分别进行控制。本实用新型由于通过凹凸不平的分区表面减少了与晶片接触的面积，有效减少了残余静电荷的积聚，能够使晶片更快地从静电吸盘上释放。

主权项

一种具有双接触面的静电吸盘，用于产生静电引力来吸持及固定晶片（30），包含基座（10）和设置在基座（10）顶部的介电层（20）；所述介电层（20）上放置有晶片（30），其特征在于，所述介电层（20）包含若干分区；其中若干所述分区通过设置的平面与所述晶片（30）接触；另外若干所述分区分别设置有凹凸不平的表面与所述晶片（30）接触，使介电层（20）上所述若干分区与所述晶片（30）之间的空隙不同。