| 发明名称 | 一种单一材料ZrO<sub>2</sub>纳米点、制备方法及应用 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种单一材料ZrO2纳米点、制备方法及应用，属于高温超导材料制备技术领域。将乙酰丙酮锆溶解到正丙酸中，得到前驱液；2)涂敷前驱液：将步骤1)制备的前驱液采用旋涂的方式涂敷到单晶基板上，得到前驱膜；3)高温烧结：在通保护气体的条件下，将前驱膜于1000～1300℃烧结100～1000分钟，得到不连续的，高度在5～50nm，直径在30～200nm，颗粒密度在10～80个/μm的ZrO2纳米点。在上述基板上用低氟MOD工艺制备YBCO膜，使得YBCO在这些岛状颗粒附近形核时由于晶格上的匹配差从而产生一些缺陷，以此作为钉扎中心来提高外加磁场下YBCO薄膜的超导性能。 | ||
| 申请公布号 | CN102173452A | 申请公布日期 | 2011.09.07 |
| 申请号 | CN201110052214.X | 申请日期 | 2011.03.04 |
| 申请人 | 北京工业大学 | 发明人 | 刘敏;徐燕;叶帅;吴紫平;吕昭;程艳玲;马麟;邱火勤;董传博;索红莉 |
| 分类号 | C01G25/02(2006.01)I;B82Y40/00(2011.01)I;C23C20/08(2006.01)I | 主分类号 | C01G25/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人 | 沈波 |
| 主权项 | 一种ZrO2纳米点，其特征在于，涂覆在单晶基板上的、不连续的、分散均匀；高度在5～50nm，直径在30～200nm，颗粒密度在10～80个/μm。 | ||
| 地址 | 100124 北京市朝阳区平乐园100号 | ||