化学气相沉积设备

摘要

本实用新型提供一种化学气相沉积设备，所述化学气相沉积设备包括：反应腔室和设置于所述反应腔室内的加热台，还包括高度调节装置，所述高度调节装置包括支撑装置和用以调节所述支撑装置高度的调节装置，所述支撑装置包括支撑端和连接端，所述支撑端穿过所述反应腔室，并位于所述反应腔室的底壁和所述加热台之间，所述连接端固定在所述调节装置上，所述调节装置固定在所述反应腔室的外表面。通过本实用新型提供的化学气相沉积设备实现了反应腔室关闭的情况下调整晶圆至喷头间的距离。

主权项

一种化学气相沉积设备，包括：反应腔室和设置于所述反应腔室内的加热台，其特征在于，还包括高度调节装置，所述高度调节装置包括支撑装置和用以调节所述支撑装置高度的调节装置，所述支撑装置包括支撑端和连接端，所述支撑端穿过所述反应腔室，并位于所述反应腔室的底壁和所述加热台之间，所述连接端固定在所述调节装置上，所述调节装置固定在所述反应腔室的外表面。