发明名称 用于化学气相沉积设备的连接管道
摘要 本实用新型提供一种用于化学气相沉积设备的连接管道,所述化学气相沉积设备包括:反应腔室和真空泵;所述连接管道包括:与所述反应腔室连接的第一管道;与所述真空泵连接的第二管道;连接所述第一管道和第二管道的连接盒;所述第一管道包括位于所述连接盒内的第一弯形管道,所述第一弯形管道具有第一自由口;所述第二管道包括位于所述连接盒内的第二弯形管道,所述第二弯形管道具有第二自由口;所述第一自由口与所述第二自由口相背。通过本实用新型提供的连接管道,减少了气态杂质颗粒进入真空泵,从而避免影响真空泵转子的工作,进一步的,提高了真空泵的寿命,降低了生产成本。
申请公布号 CN201962353U 申请公布日期 2011.09.07
申请号 CN201020679260.3 申请日期 2010.12.24
申请人 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 发明人 许亮
分类号 C23C16/44(2006.01)I;F04B53/16(2006.01)I 主分类号 C23C16/44(2006.01)I
代理机构 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人 屈蘅;李时云
主权项 一种用于化学气相沉积设备的连接管道,所述化学气相沉积设备包括:反应腔室和真空泵;其特征在于,所述连接管道包括:与所述反应腔室连接的第一管道;与所述真空泵连接的第二管道;连接所述第一管道和第二管道的连接盒;所述第一管道包括位于所述连接盒内的第一弯形管道,所述第一弯形管道具有第一自由口;所述第二管道包括位于所述连接盒内的第二弯形管道,所述第二弯形管道具有第二自由口;所述第一自由口与所述第二自由口相背。
地址 201203 上海市浦东新区张江路18号