发明名称 包括由光子晶体限定的阵列发射体的发光设备
摘要 一种发光设备,包括:具有位于n型区和p型区之间的发光区的结构。在所述结构的与发光区的第一部分对应的第一区中形成所述结构中的多个孔,所述多个孔形成光子晶体。所述结构的与所述发光区的第二部分对应的第二区是无孔的。所述设备被配置为使得,当被正向偏置时,电流被注入所述第二区中,并且所述第一区基本无电流。
申请公布号 CN101523623B 申请公布日期 2011.09.07
申请号 CN200780036900.X 申请日期 2007.09.27
申请人 皇家飞利浦电子股份有限公司 发明人 J·小韦勒;M·M·西加拉斯
分类号 H01L33/00(2006.01)I 主分类号 H01L33/00(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 龚海军;谭祐祥
主权项 一种半导体发光设备,包括:包括设置于n型区(27,29,30)和p型区(24)之间的发光区(28)的结构;和设置于所述结构的底表面的至少一部分上的反射体(20),其中:在所述结构的与所述发光区的第一部分对应的第一区中形成所述结构中的多个孔(26);所述结构的多个第二区(27)是无孔的,每个第二区与所述发光区的第二部分对应;所述第二区的每一个被所述第一区围绕;在第一区中,在设置于单个孔之间的所述结构的区域内,非导电材料(22)设置于所述发光区和所述反射体之间;并且所述设备配置为,当被正向偏置时,电流被注入所述第二区中,而所述第一区基本无电流。
地址 荷兰艾恩德霍芬