| 发明名称 | 基板处理系统及显影方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种基板处理系统及显影方法，包含水洗管路装置、喷洒装置及气体管路装置。水洗管路装置用以控制水的通入。喷洒装置经由输送管路连接水洗管路装置，并用以对基板喷洒液态物质。气体管路装置与水洗管路装置并联相接，且经由输送管路连接喷洒装置，并用以控制气体的通入，将输送管路以及喷洒装置中残余的物体喷出。 | ||
| 申请公布号 | CN101526760B | 申请公布日期 | 2011.09.07 |
| 申请号 | CN200910131239.1 | 申请日期 | 2009.04.10 |
| 申请人 | 友达光电股份有限公司 | 发明人 | 曾振助;徐士超;林欣洵;刘孟容 |
| 分类号 | G03F7/26(2006.01)I;G03F7/30(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/26(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人 | 梁挥;祁建国 |
| 主权项 | 一种基板处理系统，其特征在于，包含：一水洗管路装置，用以控制水的通入；一喷洒装置，经由一输送管路连接该水洗管路装置，并用以对该基板喷洒液态物质；以及一气体管路装置，与该水洗管路装置并联相接，且经由该输送管路连接该喷洒装置，并用以控制气体的通入，将该输送管路以及该喷洒装置中残余的物体喷出。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹 | ||