静电纺丝机之高分子原料流体组成成分比例及体积稳定装置

主权项

一种静电纺丝机之高分子原料流体组成成分比例及体积稳定装置，其中包含：一个或多个侦测元件(30)，用于侦测静电纺丝过程中高分子原料流体(20)的组成成分比例或高分子原料流体(20)体积的变化；一个或多个处理器(40)，用于分析侦测元件(30)所侦测之变化的原因；一个或多个回馈元件(50)，用于对侦测元件(30)或(及)处理器(40)所得之静电纺丝过程中高分子原料流体(20)的组成成分比例或高分子原料流体(20)体积的变化的原因进行回应；一个或多个组成原料供应槽(60)，用于配合侦测元件(30)或(及)处理器(40)或(及)回馈元件(50)进行组成原料供应槽(60)内之高分子原料流体组成原料(610)进行输送行为；而其中侦测元件(30)、处理器(40)、回馈元件(50)、组成原料供应槽(60)、高分子原料流体树脂槽体(10)五者间有线路或管路(70、80、90、100)连接。如申请专利范围第1项所述之静电纺丝机之高分子原料流体组成成分比例及体积稳定装置，其中侦测元件(30)将被置于高分子原料流体树脂槽体(10)中或置于高分子原料流体树脂槽体(10)外，且与高分子原料流体(20)互相接触或不与高分子原料流体(20)互相接触；并将侦测元件(30)以连接之线路或管路(70)与处理器(40)作连接。如申请专利范围第1项所述之静电纺丝机之高分子原料流体组成成分比例及体积稳定装置，其中回馈元件(50)将被置于高分子原料流体树脂槽体(10)中或置于高分子原料流体树脂槽体(10)外，且与高分子原料流体(20)互相接触或不与高分子原料流体(20)互相接触；并将回馈元件(50)以连接之线路或管路(80、90)与处理器(40)、组成原料供应槽(60)作连接。如申请专利范围第1项所述之静电纺丝机之高分子原料流体组成成分比例及体积稳定装置，其中组成原料供应槽(60)将被安置于高分子原料流体树脂槽体(10)外，并储存高分子原料流体，并以连接之线路或管路(90、100)与回馈元件(50)及高分子原料流体树脂槽体(10)间作连接。如申请专利范围第1项所述之静电纺丝机之高分子原料流体组成成分比例及体积稳定装置，其中处理器(40)将被安置于高分子原料流体树脂槽体(10)外，并以连接之线路或管路(70、80)与侦测元件(30)、回馈元件(50)之间作连接。如申请专利范围第1项所述之静电纺丝机之高分子原料流体组成成分比例及体积稳定装置，其中侦测元件(30)、处理器(40)、回馈元件(50)、组成原料供应槽(60)与高分子原料流体树脂槽体(10)间连接之线路或管路(70、80、90、100)可传输电气讯号或高分子原料流体组成原料(610)。如申请专利范围第1项所述之静电纺丝机之高分子原料流体组成成分比例及体积稳定装置，其中高分子原料流体树脂槽体(10)为一开放式之绝缘凹槽加热槽体或为一开放式绝缘凹槽未加热槽体，其中该槽体中将放置高分子原料流体(20)。如申请专利范围第1项所述之静电纺丝机之高分子原料流体组成成分比例及体积稳定装置，其中高分子原料流体组成原料(610)可为固体、液体、气体之有机物、无机物、有机/无机化合物、有机/无机混合物。