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一种形成化学机械抛光垫之方法，此方法包含：与抛光垫材料分开地将窗一次退火；在该经一次退火窗之预定淬火温度前，在该经一次退火窗周边提供该抛光垫材料；将该窗与该抛光垫材料一起二次退火；及将该经二次退火窗与该抛光垫材料切割成预定厚度。如申请专利范围第1项之方法，其中，该窗系在25℃至165℃间一次退火至多24小时。如申请专利范围第2项之方法，其中，该窗系在30℃至150℃间一次退火1小时至15小时。如申请专利范围第3项之方法，其中，该窗系在40℃至120℃间一次退火1.25小时至13小时。如申请专利范围第1项之方法，其中，该窗之该淬火温度系比该一次退火温度低15℃。如申请专利范围第5项之方法，其中，该窗之该淬火温度系比该一次退火温度低10℃。如申请专利范围第6项之方法，其中，该窗之该淬火温度系比该一次退火温度低5℃。如申请专利范围第1项之方法，其中，该窗系由选自以下组成之群组之材料形成：聚氯乙烯、聚丙烯腈、聚甲基丙烯酸甲酯、聚偏二氟乙烯、聚对酞酸乙二酯、聚醚醚酮、聚醚酮、聚醚醯亚胺、乙酸乙基乙烯酯、聚丁酸乙烯酯、聚乙酸乙烯酯、丙烯腈丁二烯苯乙烯、氟化乙烯丙烯、及全氟烷氧基聚合物。 |
